[发明专利]产生用于材料处理的脉冲列的方法和系统

权利要求书

1.一种系统，其包括：

用于产生CW或准CW激光束的激光源；

透过瞬时地分割部分的所述CW或准CW激光束而与用于产生激光脉冲列的激光源分离并位于其外部的调制器，所述调制器选择性地调制在所述激光脉冲列的中的脉冲之间的CW分量；以及

用于将所述激光脉冲列导向材料的目标位置的构件。

2.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括用于选择性地整形所述激光脉冲列中的一个以上脉冲的构件。

3.一种用于使用多个激光束处理材料的激光处理系统，所述系统包括：

第一处理头，其经配置以用第一激光脉冲列照明目标材料的第一位置；

第二处理头，其经配置以用第二激光脉冲列照明所述目标材料的第二位置；

激光源，其经配置以产生激光束；以及

光闸，其经配置以：

从所述激光源接收所述激光束；

将经使用接收的激光束的瞬时部份移除以同时产生所述第一激光脉冲列、所述第二激光脉冲列和所述激光束的第一剩余部分；

将所述第一激光脉冲列导向所述第一处理头；

将所述第二激光脉冲列导向所述第二处理头；以及

将所述激光束的第一剩余部分输出。

4.根据权利要求3所述的系统，其中所述激光源包括连续波CW或准CW激光源。

5.根据权利要求3所述的系统，其中所述光闸包括由第一射频RF信号和第二RF信号控制的第一声光调制器AOM，所述第一AOM经配置以基于所述第一RF信号的频率以第一角度偏转所述第一激光脉冲列，且基于所述第二RF信号的频率以第二角度偏转所述第二激光脉冲列。

6.根据权利要求5所述的系统，其进一步包括：

第三处理头，其经配置以用第三激光脉冲列照明所述目标材料的第三位置；

第四处理头，其经配置以用第四激光脉冲列照明所述目标材料的第四位置；以及

第二AOM，其经配置以：

从所述第一AOM接收所述激光束的第一剩余部分，所述第一AOM已从所述激光束移除瞬时部分，以产生所述第一激光脉冲列和所述第二激光脉冲列；

将经使用接收的所述激光束的第一剩余部分的瞬时部份移除以同时产生所述第三激光脉冲列、所述第四激光脉冲列和所述激光束的第二剩余部分；

将所述第三激光脉冲列导向所述第三处理头；

将所述第四激光脉冲列导向所述第四处理头；以及

将所述激光束的第二剩余部分输出。

7.一种激光处理方法，其包括：

将激光束提供到第一声光调制器AOM，所述第一AOM经配置以产生第一激光脉冲列、第二激光脉冲列和所述激光束的第一剩余部分；

以第一频率驱动所述第一AOM，所述第一频率经配置以沿第一光学路径偏转所述第一激光脉冲列，以便照明目标材料的第一位置；

以第二频率驱动所述第一AOM，所述第二频率经配置以沿第二光学路径偏转所述第二激光脉冲列，以便照明所述目标材料的第二位置，其中所述第一AOM在所述第一频率和所述第二频率下同时驱动；以及

将所述激光束的第一剩余部分输出。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述激光束包括连续波CW或准CW激光束。

9.根据权利要求7所述的方法，其进一步包括将所述激光束的第一剩余部分从所述第一AOM提供到第二AOM，所述第一AOM已从所述激光束移除瞬时部分以产生所述第一激光脉冲列和所述第二激光脉冲列。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述第二AOM经配置以从自所述第一AOM接收的所述激光束的第一剩余部分产生第三激光脉冲列和第四激光脉冲列。

11.根据权利要求10所述的方法，其进一步包括以第三频率驱动所述第二AOM，所述第三频率经配置以沿第三光学路径偏转所述第三激光脉冲列，以便照明目标材料的第三位置。

12.根据权利要求11所述的方法，其进一步包括以第四频率驱动所述第二AOM，所述第四频率经配置以沿第四光学路径偏转所述第四激光脉冲列，以便照明所述目标材料的第四位置。

13.根据权利要求7所述的方法，其中所述激光束包括多个激光脉冲。

14.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括驱动所述第一AOM以便将所述激光束的脉冲的至少一第一部分导向所述第一光学路径，且将所述脉冲的至少一第二部分导向所述第二光学路径。