[发明专利]测试掩模

权利要求书

1.一种测试掩模，其用于光掩模的检查，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形，被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光，而且，

该测试掩模形成有测试图形，该测试图形具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部，其中，

所述测试图形包含：排列有基于一定的规律其图形形状逐次变化的多个单位图形的部分，

所述多个单位图形分别具有所述灰色调部，

所述各单位图形的所述灰色调部的面积，根据所述一定的规律而互不相同。

2.一种测试掩模，其用于光掩模的检查，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形，被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光，而且，

该测试掩模形成有测试图形，该测试图形具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部，其中，

所述测试图形包含：排列有基于一定的规律其图形形状逐次变化的多个单位图形的部分，

所述多个单位图形分别具有所述灰色调部，

所述各单位图形的所述灰色调部在规定曝光条件下的有效透射率，根据所述一定的规律而互不相同。

3.如权利要求1或者2所述的测试掩模，其特征在于，

所述测试图形具有与两个以上的遮光部相邻并被这些遮光部夹持的灰色调部。

4.如权利要求3所述的测试掩模，其特征在于，

所述两个以上的遮光部，通过使线宽阶段性不同而使两个遮光部之间的间隔阶段性变化。

5.如权利要求1或者2所述的测试掩模，其特征在于，

所述测试图形具有灰色调部，该灰色调部具有曝光时的规定的光学条件下的析像分辨极限以下的线宽的图形。

6.如权利要求1或者2所述的测试掩模，其特征在于，

所述单位图形具有灰色调部，该灰色调部形成有使曝光光束减低规定量而透射的半透射性膜。

7.如权利要求1或者2所述的测试掩模，其特征在于，

所述单位图形沿X方向和与该X方向呈90度的Y方向排列。