[发明专利]真空清洁头

权利要求书

1.一种真空清洁头，包括：

壳体，具有用于允许空气流进入该头的吸口；

用于搅动要被清洁表面的搅动器，该搅动器具有激活状态和非激活状态；

用于接收来自壳体的空气流的管；和

用于控制搅动器的状态的控制组件，该控制组件包括：

压力腔室，该压力腔室具有与管流体相通的内部空间且其可响应内部空间和环境空气之间的压力差而在膨胀构造和收缩构造之间变化；

促动器，用于响应压力腔室向收缩构造的转变而改变搅动器的状态；和

控制机构，具有第一状态和第二状态，该第一状态用于防止压力腔室采取收缩构造，该第二状态用于允许压力腔室采取收缩构造，控制机构被设置为响应压力腔室的内部空间的增加而在第一状态和第二状态之间变化。

2.如权利要求1所述的真空清洁头，其中，控制机构被设置为当内部空间和环境空气之间基本上没有压力差时采取第一状态。

3.如权利要求1所述的真空清洁头，其中，压力腔室包括第一腔室区段和能相对于该第一腔室区段运动的第二腔室区段。

4.如权利要求3所述的真空清洁头，其中，控制组件包括连接至第二腔室区段的第一臂，和连接至促动器的第二臂，该第一臂被连接至第二臂。

5.如权利要求4所述的真空清洁头，其中，当控制机构处于第一状态时第一臂能相对于第二臂运动。

6.如权利要求3所述的真空清洁头，其中，第二腔室区段被偏压远离第一腔室区段。

7.如权利要求6所述的真空清洁头，其中，压力腔室包括位于第一和第二腔室区段之间的中间构件，用于把该中间构件偏压远离第一腔室区段的第一弹簧，和用于把第二腔室区段偏压远离该中间构件的第二弹簧。

8.如权利要求7所述的真空清洁头，其中，第一弹簧具有高于第二弹簧的弹簧常数。

9.如权利要求7所述的真空清洁头，其中，第二弹簧被设置为当控制组件在第一和第二状态之间变化时保持处于压缩构造中。

10.如权利要求3所述的真空清洁头，其中，控制机构包括连接至第一腔室区段的轨道架，和与第二腔室区段一起运动以相对于轨道架运动的轨道从动件，该轨道架包括用于在压力腔室的构造改变时引导轨道从动件相对于轨道架的运动的轨道。

11.如权利要求10所述的真空清洁头，其中，轨道从动件能相对于轨道架旋转。

12.如权利要求11所述的真空清洁头，其中，轨道从动件能相对于第二腔室区段旋转

13.如前述权利要求任一项所述的真空清洁头，其中，压力腔室被连接至促动器。

14.如权利要求1至12中任一项所述的真空清洁头，其中，压力腔室位于管的与促动器相对的侧部上。

15.如权利要求1至12中任一项所述的真空清洁头，其中，搅动器在其激活状态中能相对于壳体旋转。

16.如权利要求15所述的真空清洁头，包括驱动机构，用于把搅动器相对于壳体旋转。

17.如权利要求16所述的真空清洁头，其中，驱动机构包括空气涡轮组件，该组件包括用于驱动搅动器的叶轮。

18.如权利要求17所述的真空清洁头，包括涡轮空气入口，与吸口分离，用于允许第二空气流流至涡轮组件。

19.如权利要求18所述的真空清洁头，其中，促动器包括关闭构件，该关闭构件能在打开位置和关闭位置之间运动，用于基本上关闭涡轮空气入口。