[发明专利]显影单元、成像设备和处理盒

权利要求书

1.一种显影单元，包括：

显影剂载体，该显影剂载体承载调色剂，以将调色剂传送到与潜像载体相对的相对部分；

调色剂供给元件，该调色剂供给元件具有多孔表面层，该调色剂供给元件在保持与显影剂载体接触的同时转动，以将调色剂提供到显影剂载体，并且从显影剂载体收集在显影中未使用的调色剂；

在其中存放调色剂的调色剂存储部；

搅拌元件，该搅拌元件被转动以搅拌调色剂存储部内的调色剂；

调色剂量探测单元，该调色剂量探测单元探测在所述调色剂存储部中剩余的调色剂量；

调色剂供给单元，该调色剂供给单元基于调色剂量探测单元的探测结果从其中存放新调色剂的调色剂容器向所述调色剂存储部供给调色剂；以及

调色剂去除元件，该调色剂去除元件去除在调色剂供给元件的多孔表面层中承载的调色剂，其中：

所述调色剂去除元件以与所述调色剂供给元件的多孔表面层可分离和可接触的方式布置；并且

所述显影单元具有搅拌模式，在该搅拌模式下：

调色剂去除元件与所述多孔表面层形成接触；且

在调色剂被所述调色剂供给单元供给时，所述调色剂供给元件旋转，同时所述搅拌元件被转动以搅拌调色剂。

2.如权利要求1所述的显影单元，其中：

所述调色剂去除元件布置成围绕与所述调色剂供给元件平行设置的轴线旋转，并且具有与所述多孔表面层保持接触的旋转轨迹；且

在搅拌模式下，所述调色剂去除元件保持静止、与所述多孔表面层接触。

3.如权利要求1所述的显影单元，其中：

搅拌元件被设置成多个；且

在搅拌模式下，至少一个搅拌元件被保持静止、与所述多孔表面层接触，以便作用为调色剂去除元件。

4.如权利要求1所述的显影单元，其中：

在所述调色剂供给元件的旋转方向上，所述调色剂去除元件布置在上游，且在调色剂被供给时旋转的搅拌元件被布置在下游。

5.如权利要求3所述的显影单元，其中：

在成像期间，所述多个搅拌元件被驱动转动。

6.如权利要求4所述的显影单元，其中：

在成像期间，多个搅拌元件被驱动转动。

7.一种处理盒，该处理盒包括显影单元，其中：

所述显影单元包括：

显影剂载体，该显影剂载体承载调色剂，以将调色剂传送到与潜像载体相对的相对部分；

调色剂供给元件，该调色剂供给元件具有多孔表面层，该调色剂供给元件在保持与显影剂载体接触的同时转动，以将调色剂提供到显影剂载体，并且从显影剂载体收集在显影中未使用的调色剂；

在其中存放调色剂的调色剂存储部；

搅拌元件，该搅拌元件被转动以搅拌调色剂存储部内的调色剂；

调色剂量探测单元，该调色剂量探测单元探测在所述调色剂存储部中剩余的调色剂量；

调色剂供给单元，该调色剂供给单元基于调色剂量探测单元的探测结果从其中存放新调色剂的调色剂容器向所述调色剂存储部供给调色剂；以及

调色剂去除元件，该调色剂去除元件去除在调色剂供给元件的多孔表面层中承载的调色剂，其中：

所述调色剂去除元件以与所述调色剂供给元件的多孔表面层可分离和可接触的方式布置；并且

所述显影单元具有搅拌模式，在该搅拌模式下：

调色剂去除元件与所述多孔表面层形成接触；且

在调色剂被所述调色剂供给单元供给时，所述调色剂供给元件旋转，同时所述搅拌元件被转动以搅拌调色剂，

所述潜像载体和显影单元集成在所述处理盒中，且

所述处理盒可从成像设备的主体拆卸。

8.如权利要求7所述的处理盒，其中：

所述调色剂去除元件布置成围绕与所述调色剂供给元件平行设置的轴线旋转，并且具有与所述多孔表面层保持接触的旋转轨迹；且

在搅拌模式下，所述调色剂去除元件保持静止、与所述多孔表面层接触。

9.如权利要求7所述的处理盒，其中：

搅拌元件被设置成多个；且

在搅拌模式下，至少一个搅拌元件被保持静止、与所述多孔表面层接触，以便作用为调色剂去除元件。