[其他]源组件、质谱仪及包括其的仪器、末端透镜及包括其的成套设备

说明书

优先权申请 

本申请是2009年10月12日提交的美国临时申请No.61/250,619的非临时申请并要求其优先权，所述临时申请的全部内容为了所有目的特此通过引用并入本文。 

技术领域

本申请涉及离子源和电子源及使用它们的方法。特别是，本文所述的某些实施方案目的在于在组装离子源和/或电子源时使用的部件。 

背景技术

很多设备使用离子源或电子源来提供离子或粒子。在该源的使用期间，它可能被样本污染，或其它不需要的物种可能积聚在源部件上，潜在地导致差的性能或分析错误。 

发明内容

在第一方面，提供了包括被配置成接纳源部件的壳室的源组件，壳室包括第一整体对准特征件。在某些实施例中，源组件还可包括被配置成提供射束的末端透镜，末端透镜包括第二整体对准特征件并被构造和布置成当第一整体对准特征件耦接到第二整体对准特征件时耦接到壳室，以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中。 

[0008]在另一方面，提供了包括壳室的源组件，壳室被配置成接纳源部件并包括第一组整体对准特征件。在某些实施方案中，源组件还可包括被构造和布置成提供射束的末端透镜，末端透镜包括第二组整体对准特征件并被构造和布置成当第一组整体对准特征件耦接到第二组整体对准特征件时耦接到壳室，以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中。 

在另一方面，描述了包括壳室的质谱仪，壳室被配置成接纳源并包括第一整体对准特征件。在某些实施方案中，质谱仪可包括耦接到壳室并被构造和布置成提供射束的末端透镜，末端透镜包括第二整体对准特征件并被构造和布置成当第一整体对准特征件耦接到第二整体对准特征件时耦接到壳室，以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中以提供源组件。在一些实施方案中，质谱仪还可包括耦接到末端透镜的质量分析仪。 

在另一方面，公开了包括壳室的质谱仪，壳室被配置成接纳源部件并包括第一组整体对准特征件。在某些实施例中，质谱仪可包括耦接到壳室并被构造和布置成提供射束的末端透镜，末端透镜包括第二组整体对准特征件并被构造和布置成当第一组整体对准特征件耦接到第二组整体对准特征件时耦接到壳室，以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中以提供源组件。在一些实施例中，质谱仪可包括耦接到末端透镜的质量分析仪。 

在另一方面，描述了包括流体色谱仪和质谱仪的仪器，质谱仪耦接到流体色谱仪以从流体色谱仪接收分析物。在某些实施例中，质谱仪包括壳室中的源部件和被配置成提供射束并耦接到壳室的末端透镜，壳室包括第一整体对准特征件，末端透镜包括第二整体对准特征件并被构造和布置成当第一整体对准特征件耦接到第二整体对准特征件时耦接到壳室，以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中以提供源组件。 

在另一方面，提供了包括流体色谱仪和质谱仪的仪器，质谱仪耦接到流体色谱仪以从流体色谱仪接收分析物，质谱仪包括壳室中的源部件和被配置成提供射束并耦接到壳室的末端透镜，壳室包括第一组整体对准特征件，末端透镜包括第二组整体对准特征件并被构造和布置成当第一组整体对准特征件耦接到第二组整体对准特征件时耦接到壳室，以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中以提供源组件。 

在另一方面，提供了末端透镜，其被配置成提供离子或电子，并包括被构造和布置成耦接到源组件的壳室的相应对准特征件的整体对准特征件。在一些实施例中，整体对准特征件用来在整体对准特征件与源组件的壳室的相应对准特征件耦接时使末端透镜与源组件的壳室中的源部件对准，末端透镜还被配置成当对准特征件耦接时将源部件保持在源组件的壳室中。 

在另一方面，公开了末端透镜，其被配置成提供离子或电子，并包括被构造和布置成耦接到源组件的壳室的相应对准特征件的一组整体对准特征件，整体对准特征件用来在整体对准特征件与源组件的壳室的相应对准特征件耦接时使末端透镜与源组件的壳室中的源部件对准，末端透镜还被配置成当这两组对准特征件耦接时将源部件保持在源组件的壳室内。 

在另一方面，提供了一种方法，其包括将源壳室上的第一整体对准特征件耦接到在操作来提供射束的末端透镜上的第二整体对准特征件，对准特征件的耦接导致源部件保持在源壳室中以及源壳室中的源部件与末端透镜对准。 

在另一方面，描述了一种方法，其包括将源壳室上的第一组整体对准特征件耦接到在操作来提供射束的末端透镜上的第二组整体对准特征件，对准特征件的耦接导致源部件保持在源壳室中。