[发明专利]粒子射线照射装置、粒子射线治疗装置以及数据显示程序

说明书

技术领域

本发明涉及一种使用粒子射线来治疗癌症等的粒子射线照射装置以及粒子射线治疗装置。

背景技术

粒子射线治疗装置是将带电粒子束照射到癌症等的患部、来进行治疗的医疗设备。粒子射线治疗装置所需要的功能在于，将治疗所需的量的剂量给予癌症等的患部，并形成照射野，使得尽量不将剂量照射到其他正常组织上。对于形成照射野的方法，存在有宽射束照射法以及扫描照射法这两大类。

关于宽射束照射法，是首先利用散射体等来扩大照射野、再通过准直器及团块等根据患部来形成照射野的方法。由于通过临床试验确认了宽射束照射法的安全性，因此宽射束照射法在现有的粒子射线治疗装置中应用最广泛。然而，由于每个患者的患部形状有所不同，或者即使同一患者随着治疗的进程而患部会缩小，因此此时必须每次制备团块，从这一情况来看，希望一种自由度更高的照射野形成方法。因而，近年来，积极进行将扫描照射法应用于粒子射线治疗装置中的研究开发。

所谓的扫描照射法，是指根据患部的形状、来使细束状的细小的带电粒子束进行三维扫描以进行照射的方法。而特别是所谓的束点扫描法，是指重复地将该细束状的细小的带电粒子束进行照射及停止照射、从而进行点描绘式照射而成束点状的方法。另外，特别是所谓的光栅扫描法，是指在保持将细束状的细小的带电粒子束进行照射的状态下进行扫描、从而进行一笔画式照射的方法。无论在哪种情况下，对细束状的细小的带电粒子束的扫描均使用被称作为扫描电磁铁（以下称作“扫描电磁铁”）的、高速地使磁场发生变化的电磁铁。

对于扫描电磁铁的扫描精度、即粒子射线治疗装置的照射精度，当然需要对扫描电磁铁进行适当的控制。然而，即使一开始就对其进行调整，粒子射线治疗装置的照射精度也会随着时间的流逝而产生误差。因此，希望显示照射位置精度，使得一眼就能明白其趋势，从而能够适当地维持粒子射线治疗装置的照射精度，并对其进行维护。专利文献1中，公开了一种带电粒子束照射系统，该系统基于来自位置监视器的检测信号来计算射束的照射位置的偏差（与目标值的差值），并判断该计算出的照射位置的偏差是否超过容许值，例如在判断为照射位置的偏差超过容许值的情况下，对输出部输出联锁信号及显示信号，并中止射束照射。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2009－39219号公报（第0043段落至第0050段落）

发明内容

发明所要解决的技术问题

专利文献1中的带电粒子束照射系统虽然能够基于来自位置监视器的检测信号来计算射束的照射位置的偏差（与目标值的差值），并判断该计算出的照射位置的偏差是否超过容许值，在判断为照射位置的偏差超过容许值的情况下，中止射束照射，然而其没有显示带电粒子束照射系统的照射位置精度而使得一眼就能明白其趋势的方法，故不具备该功能。特别是，在以使射束进行扫描的方式进行照射的类型的装置中，要能够将照射位置与照射位置误差相对应地进行显示，或者能够将和照射位置相关联的照射位置关联值与照射位置关联值误差相对应地进行显示，这对于维持照射精度、以及维护来说至关重要。

所谓的“和照射位置相关联的照射位置关联值”，未必是照射位置本身，而是指和照射位置有一对一关系的、能根据该值导出照射位置的值。例如，可以是位置监视器的输出值、或安装在扫描电磁铁上的磁场传感器的值等。另外，所谓的照射位置关联值误差，是指照射位置关联值的相对于目标照射位置关联值的误差。这里，所谓的目标照射位置关联值，未必是目标照射位置本身，而是指根据与上述照射位置和照射位置关联值相同的相关联关系、从而和目标照射位置具有一对一关系的、能根据该值导出目标照射位置的值。

本发明鉴于解决上述问题，其目的在于提供一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置能够将照射位置与照射位置误差相对应地进行显示，或者能够将和带电粒子束的照射位置相关联的照射位置关联值与照射位置关联值误差相对应地进行显示。

解决技术问题所采用的技术方案