[发明专利]高反射率的屋面系统有效
申请号: | 201080051939.0 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN102612580A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | E·L·塞克索尔;M·W·科尔布 | 申请(专利权)人: | 国家涂料公司 |
主分类号: | E04D5/12 | 分类号: | E04D5/12;E04D7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射率 屋面 系统 | ||
1.冷屋面系统,包含:至少一层沥青层和至少一层颗粒层,所述颗粒层包含大量粘附到所述沥青层上的反射率约80%至约92%的高反射率的煅烧高岭土颗粒,其中冷屋面系统的最小日光反射率是70%或更高。
2.根据权利要求1的冷屋面系统,其中冷屋面系统的日光反射率是约70%至约82%。
3.根据权利要求1的冷屋面系统,其中煅烧高岭土颗粒的粒径是约0.3mm至约2.4mm。
4.根据权利要求1的冷屋面系统,其中煅烧高岭土颗粒进一步包含表面处理剂。
5.根据权利要求4的冷屋面系统,其中所述表面处理剂是选自由硅烷、硅氧烷、聚硅氧烷、有机硅氧烷、硅酸盐、有机硅酸盐、硅树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯、聚氨酯、二醇醚和它们的混合物组成的组的表面处理剂。
6.根据权利要求4的冷屋面系统,其中所述处理剂包括包含硅烷和硅氧烷的无溶剂乳液。
7.根据权利要求1的冷屋面系统,进一步包含施用于颗粒层的表面处理剂。
8.根据权利要求7的冷屋面系统,其中所述表面处理剂包含选自由硅烷、硅氧烷、聚硅氧烷、有机硅氧烷、硅酸盐、有机硅酸盐、硅树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯、聚氨酯、二醇醚和它们的混合物组成的组的表面处理剂。
9.根据权利要求7的冷屋面系统,其中表面处理剂包括包含硅烷和硅氧烷的乳液。
10.冷屋面系统包含:屋面基材、至少一层施用于屋面基材上的喷涂聚氨酯泡沫层、施用于喷涂聚氨酯泡沫层上并与之粘附的弹性涂层和颗粒层,所述颗粒层包含大量反射率是约80%至约92%的高反射率的煅烧高岭土颗粒,它与弹性涂层的上表面粘附,其中所述冷屋面系统的最小反射率是至少70%。
11.根据权利要求10的冷屋面系统,其中喷涂的聚氨酯泡沫层的厚度是约1英寸至约3英寸。
12.根据权利要求10的冷屋面系统,其中日光反射率是至少70%至约84%。
13.根据权利要求10的冷屋面系统,其中煅烧高岭土颗粒的粒径是约0.3mm至约2.4mm。
14.根据权利要求10的冷屋面系统,其中所述弹性涂层包含丙烯酸树脂、氨基甲酸酯或有机硅的任一种。
15.根据权利要求10的冷屋面系统,其中煅烧高岭土颗粒进一步包含表面处理剂。
16.根据权利要求15的冷屋面系统,其中所述表面处理剂是选自由硅烷、硅氧烷、聚硅氧烷、有机硅氧烷、硅酸盐、有机硅酸盐、硅树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯、聚氨酯、二醇醚和它们的混合物组成的组的处理剂。
17.根据权利要求16的冷屋面系统,其中所述表面处理剂包含硅烷和硅氧烷的乳液。
18.根据权利要求10的冷屋面系统,进一步包含施用于颗粒层的表面处理剂。
19.根据权利要求18的冷屋面系统,其中所述表面处理剂包含硅烷和硅氧烷的乳液。
20.根据权利要求18的冷屋面系统,其中所述表面处理剂包含选自由硅烷、硅氧烷、聚硅氧烷、有机硅氧烷、硅酸盐、有机硅酸盐、硅树脂、丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯、聚氨酯、二醇醚和它们的混合物组成的组的表面处理剂。
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