[发明专利]过滤装置和过滤方法有效

专利信息
申请号: 201080045491.1 申请日: 2010-10-08
公开(公告)号: CN102725044A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 村上吉明;石丸丰;横山英树 申请(专利权)人: 株式会社神钢环境舒立净
主分类号: B01D24/46 分类号: B01D24/46;B01D24/12;B01D24/22;B01D29/62
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 日本兵库*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 过滤 装置 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种过滤装置和过滤方法。具体涉及如下过滤装置以及具备通过反洗来洗涤所述过滤装置的滤层部的工序的过滤方法,所述过滤装置具备:滤层部,其用于过滤例如原水;多列集水管,其用于集中透过该滤层部的透过水;压力沟,其将水加压输送至该多列集水管,所述过滤装置以通过从所述压力沟向所述集水管移送水来反洗滤层部的方式构成。

背景技术

现有技术中,这种过滤装置用于例如从河川水等陆地水得到作为净化水的过滤池处理水。

该过滤装置以在集水管的上面部分散设有多个小孔(orifice)并使由滤层部过滤的水从该小孔被移送至集水管内而回收的方式构成。另外,该过滤装置以如下方式构成,即:当原水中包含的杂质积蓄在滤层部使该滤层部堵塞时,水从压力沟被加压输送至集水管,该水从所述小孔被加压输送至滤层部,滤层部被该水洗涤(反洗)(例如,专利文献1)。

然而,作为应付隐孢子虫的方法,在1996年10月旧厚生省通告了“应该将过滤池处理水的浊度维持在0.1度以下”的临时准则。为了维持过滤池处理水的浊度在0.1度以下,有必要使杂质无法积蓄在滤层部。因此,为使杂质不积蓄在滤层部,并且为了以高于现有的水平均匀洗涤滤层部整体,需要使在反洗时施加于各小孔的水压均匀。

另外,公开了一种为了稳定处理水浊度而对水的流速进行渐增和渐降的用于反洗的操作方法,如缓慢开始、缓慢结束,以避免滤层部的粒径结构不慎变乱。

使用该操作方法时,不仅需要保持最初设定的一定流速时的反洗水的压力均匀性,也需要保持变动流速、特别是低流速域的反洗水的压力均匀性。

现有技术文献:

专利文献

专利文献1:日本国特公平6-61411号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而,现有的集水管中,反洗水的压力的均匀性不足,特别是,如上所述在变动反洗水的流速时均匀性变得更加不足,其结果,具有无法均匀洗涤滤层部整体的问题。

然而,作为均匀洗涤滤层部整体的对策而考虑到的是,减短从规定位置至集水管的上游侧顶端的距离,该规定位置是指将水从所述压力沟水加压输送至集水管的位置。

然而,该过滤装置中,为了进行大面积水处理,需要制作几个集水管和压力沟的组合,由此产生配管机构变复杂的问题。

本发明是鉴于上述的问题而提出的,其课题在于提供一种能够简化配管机构且通过反洗实现滤层部的优异的均匀洗涤的过滤装置和过滤方法。

解决课题的方法

本发明是一种过滤装置,具备:滤层部,其用于过滤原水;多列集水管,其用于集中透过该滤层部的透过水;压力沟,其将水加压输送至该多列集水管,并且所述过滤装置通过从所述压力沟向所述集水管移送水来反洗滤层部,其特征在于,

所述过滤装置设有连通各集水管的连通部,以利用各集水管的压力差在各集水管之间移送从压力沟移送至集水管的水。

另外,本发明的过滤装置中,优选地,所述集水管的通过所述连通部来移送水的部分,形成在从规定位置至集水管上游侧顶端的一半以下距离的位置,该规定位置是指将水从所述压力沟加压输送至所述集水管的位置。

而且,本发明的过滤装置中,优选地,所述集水管包括剖面为中空柱状的外壳体和设在该外壳体内的内壳体,

该内壳体将该外壳体内部划分为第一流通部和第二流通部,

在所述外壳体的上面部设有第一小孔,使所述透过水从该第一小孔移送至第一流通部,

在所述内壳体设有第二小孔,使第一流通部的透过水从该第二小孔移送至第二流通部,

该第二流通部的侧面部的至少一部分由外壳体的侧面部的至少一部分构成,

在由该外壳体的侧面部的至少一部分构成的、第二流通部的侧面部的部分之间连接有连通部。

另外,本发明涉及一种过滤方法,其使用所述过滤装置的滤层部进行过滤,并具备通过反洗该过滤部来进行洗涤的步骤。

发明效果

如上所述,根据本发明,则能够提供可以简化配管机构且由反洗带来的滤层部的均匀洗涤性优异的过滤装置和过滤方法。

附图说明

图1是一实施方案的过滤装置的部分断裂简要立体图。

图2是一实施方案的过滤装置的模式图。

图3是表示构成一实施方案过滤装置集水管的带孔块的部分断裂简要立体图。

图4是一实施方案的过滤装置的带孔块的剖视图。

图5是一实施方案的过滤装置的剖视图。

图6是一实施方案的过滤装置的剖视图。

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