[发明专利]光学玻璃、精密模压成形用预成形件、光学元件及其制造方法和摄像装置有效

专利信息
申请号: 201080033281.0 申请日: 2010-07-20
公开(公告)号: CN102471131A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 高泽洋树 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C03C3/064 分类号: C03C3/064;C03C3/062;C03C3/066;C03C3/078;C03C3/089;C03C3/097;G02B1/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 肖善强
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学玻璃 精密 模压 成形 光学 元件 及其 制造 方法 摄像 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种具有高折射率、高色散性并且具有优异的精密模压成形性的光学玻璃、分别由上述玻璃制成的精密模压成形用预成形件和光学元件、它们的制造方法,并且还涉及其上装有上述光学元件的摄像装置。

背景技术

对高折射率、高色散性的光学玻璃的需求很大,特别地,由上述玻璃形成的非球面透镜是高性能数字静态照相机必不可少的透镜。

作为批量生产非球面透镜的方法,已知的有精密模压成形法(也称为光学模压成形法)。作为高折射率、高色散性的光学玻璃,已知的有磷酸盐玻璃。尽管磷酸盐光学玻璃是一种极好的玻璃,但存在的问题是:在其精密模压成形期间,玻璃表面易受损伤。

作为高折射率、高色散性的非磷酸盐玻璃,已知的有专利文献1-5中公开的玻璃。所有这些玻璃都具有含硅成分。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开2004-110942号公报;

专利文献2:日本特开2004-161598号公报;

专利文献3:日本特开2002-87841号公报

发明概述

发明要解决的问题

为了得到一种高折射率、高色散性的玻璃,需要引入能赋予其高折射率、高色散性的组分(例如Nb、Ti等),不论它是含磷酸盐的玻璃还是含硅的玻璃。

但是,当含Nb、Ti等的玻璃被精密模压成形时,在玻璃和压模之间的界面上发生氧化还原反应。结果在透镜表面产生泡沫,由此导致的问题是难以使生产率保持在高水平。当模压成形的温度增大时,上述问题变得更明显。与磷酸盐玻璃相比,含硅的玻璃具有高玻璃化转变温度,所以需要将模压成形温度设置在较高的温度,这促进了模压成形期间玻璃和压模之间的反应。

例如,专利文献1公开的玻璃的玻璃化转变温度为530℃或更高,该玻璃化转变温度不足以抑制上述反应。此外,该玻璃的稳定性低,为了得到均匀的光学玻璃而搅拌玻璃熔体时,可能沉淀出晶体;或者当玻璃熔体被浇注和成形时,可能沉淀出晶体,所以上述玻璃不适合批量生产。

专利文献2公开的玻璃的问题是:它的稳定性如专利文献1的玻璃一样低,并且容易失透(失去透明性)。

专利文献3公开了一种高折射率、高色散性的玻璃以及一种中等折射率、高色散性的玻璃。但是,对于高折射率、高色散性的玻璃来说,其玻璃化转变温度没有充分降低。

在这种情况下,需要获得一种高折射率、高色散性的且能抵抗失透、能通过精密模压成形稳定生产高品质光学元件的光学玻璃。

本发明的目的是克服上述问题,并提供一种具有高折射率、高色散性、优异的耐失透性和精密模压成形性的光学玻璃,分别由上述玻璃制成的精密模压成形用预成形件和光学元件,它们的制备方法,以及具有上述光学元件的摄像装置。

用于解决问题的手段

在本发明中用于解决问题的手段包括:

[1]一种光学玻璃,其为氧化物玻璃,并且以阳离子%表示,包含:

总计20至40%的Si4+和B3+

总计15至40%的Nb5+、Ti4+、W6+和Zr4+

总计0.2至20%的Zn2+、Ba2+、Sr2+和Ca2+,以及

总计15至55%的Li+、Na+和K+

B3+的含量与B3+和Si4+的总含量的阳离子比为0.01-0.5,

Zr4+的含量与Nb5+、Ti4+、W6+和Zr4+的总含量的阳离子比为0.05或更小,

Zn2+和Ba2+的总含量与Zn2+、Ba2+、Sr2+和Ca2+的总含量的摩尔比为0.8-1,

所述光学玻璃的折射率nd为1.815或更高,阿贝数νd为29或更小;

[2]如上述[1]所述的光学玻璃,其玻璃化转变温度小于530℃;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社,未经HOYA株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080033281.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top