[发明专利]用于使直线性加速器和磁共振成像设备彼此屏蔽的方法和装置有效
申请号: | 201080032027.9 | 申请日: | 2010-07-15 |
公开(公告)号: | CN102472830A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | S·施瓦兹曼;G·登米斯特;J·F·登普希;J·L·帕特里克二世 | 申请(专利权)人: | 微雷公司 |
主分类号: | G01V3/18 | 分类号: | G01V3/18 |
代理公司: | 北京嘉和天工知识产权代理事务所 11269 | 代理人: | 严慎 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 线性 加速器 磁共振 成像 设备 彼此 屏蔽 方法 装置 | ||
1.一种放射治疗系统,所述放射治疗系统包括:
磁共振成像(MRI)系统,所述MRI系统包括相隔MRI磁隙的第一主MRI磁体和第二主MRI磁体,
其中所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体一起工作以生成磁场,所述磁场的至少一部分沿着第一纵轴延伸,所述第一纵轴延伸通过所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体的等中心;
机架,所述机架定位在所述MRI磁隙中,所述机架是围绕所述第一纵轴可旋转的;
直线粒子加速器(直线加速器),所述直线粒子加速器在离所述第一主磁体和所述第二主磁体的等中心一第一固定径向距离处受到所述机架支承,所述直线加速器沿着第二纵轴排列,并且被构造来随所述机架旋转并且将辐射束导向所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI主磁体的等中心;以及
磁屏蔽罩,所述磁屏蔽罩在离所述第一主磁体和所述第二主磁体的等中心一第二固定径向距离处受到所述机架支承,
其中所述磁屏蔽罩包括至少部分包围所述直线加速器的壳体。
2.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中当所述直线加速器围绕所述第一纵轴旋转时,所述第二纵轴延伸通过所述等中心。
3.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中当所述直线加速器围绕所述第一纵轴旋转时,所述第二纵轴保持与所述第一纵轴正交。
4.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述壳体由包括钢的材料形成。
5.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述磁屏蔽罩还包括第二壳体。
6.如权利要求5所述的放射治疗系统,其中所述第二磁屏蔽罩与所述第一磁屏蔽罩同轴。
7.如权利要求5所述的放射治疗系统,其中所述第二磁屏蔽罩沿着第三纵轴延伸,其中所述第二纵轴和所述第三纵轴共面。
8.如权利要求7所述的放射治疗系统,还包括至少部分被所述第二磁屏蔽罩包围的第二直线加速器。
9.如权利要求5所述的放射治疗系统,其中所述第二壳体由包括钢的材料形成。
10.如权利要求5所述的放射治疗系统,其中所述第一壳体和所述第二壳体由各自的不同的钢形成。
11.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中由所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体生成的磁场在离所述等中心一特定位置处转向反方向,并且其中所述磁屏蔽罩从所述特定位置延伸。
12.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述磁屏蔽罩还包括线圈。
13.如权利要求12所述的放射治疗系统,其中所述壳体提供无源磁屏蔽,而所述线圈提供有源磁屏蔽。
14.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述机架是可与所述MRI系统无关地围绕所述第一纵轴旋转的。
15.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述壳体为圆柱形。
16.一种放射治疗系统,所述放射治疗系统包括:
磁共振成像(MRI)系统,所述MRI系统包括用于产生磁场的第一主MRI磁体和第二主MRI磁体,
其中所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体相隔MRI磁隙,并且围绕第一纵轴径向延伸;
机架,所述机架定位在所述MRI磁隙中,所述机架是围绕所述第一纵轴可旋转的;
直线粒子加速器(直线加速器),所述直线粒子加速器在离所述第一纵轴一第一固定径向距离处受到所述机架支承,所述直线加速器被构造来随所述机架旋转并且将沿着第二纵轴的辐射束导向所述第一纵轴;以及
磁屏蔽罩,所述磁屏蔽罩在离所述第一纵轴一第二固定径向距离处受到所述机架支承,
其中所述磁屏蔽罩包括与所述直线加速器同轴地延伸并且至少部分包围所述直线加速器的壳体。
17.如权利要求16所述的放射治疗系统,其中当所述直线加速器围绕所述第一纵轴旋转时,所述第二纵轴延伸通过所述第一纵轴。
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