[发明专利]流体处理方法、流体处理装置及流体有效
| 申请号: | 201080022186.0 | 申请日: | 2010-05-11 |
| 公开(公告)号: | CN102438727A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
| 发明(设计)人: | 龟谷桂一郎;渡边盛正;田中修 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
| 主分类号: | B01D53/06 | 分类号: | B01D53/06;B01D53/26 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 党晓林;王小东 |
| 地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 流体 处理 方法 装置 | ||
1.一种流体处理方法,用于使被处理流体中所含的第1成分的浓度降低,其包括:
第1步骤,使上述被处理流体中所含的与上述第1成分不同的第2成分的浓度降低,从而获得第1流体;
第2步骤,使上述第1流体通过吸附部(20、220、320、420、520)的至少一部分而获得第2流体,上述吸附部(20、220、320、420、520)可吸附上述第1成分及上述第2成分中的任一成分,且至少关于上述第1成分的上述吸附能力具有温度相关性;以及
再生步骤,使第3流体通过上述吸附部(20、220、320、420、520)中的使上述第1流体通过的部分,所述第3流体中的上述第2成分的浓度低于上述被处理流体中上述第2成分的浓度,且该第3流体的温度高于上述被处理流体的温度。
2.根据权利要求1所述的流体处理方法,其中
上述第3流体中上述第1成分的浓度进一步降低。
3.根据权利要求1或2所述的流体处理方法,其中
还包括冷却步骤,该冷却步骤中使冷却用流体通过上述再生步骤中上述第3流体通过上述吸附部(20、320、520)中的部分,上述冷却用流体为上述第1流体或上述第2流体的一部分且温度低于上述第3流体。
4.根据权利要求3所述的流体处理方法,其中
上述第3流体为将上述冷却步骤中通过上述吸附部(20、320、520)的上述冷却用流体加热所得的流体。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的流体处理方法,其中
藉由使于上述吸附部(20、220、320、420、520)中使上述第1流体通过的位置(A)及使上述第3流体通过的位置(B)移动而进行上述再生步骤。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的流体处理方法,其中
上述第1成分是二氧化碳,
上述第2成分是水分。
7.一种流体处理装置(1、201、401、501、501A、501B、601),用于使被处理流体中所含的第1成分的浓度降低,其包括:
第2成分处理部(10、610),用于使上述被处理流体中所含的与上述第1成分不同的第2成分的浓度降低;
吸附部(20、220、420、520),其可吸附上述第1成分及上述第2成分中的任一成分,且至少关于上述第1成分的上述吸附能力具有温度相关性;
第1传送部(32、33、55),其使通过上述第2成分处理部(10、610)的上述被处理流体的一部分即第1流体通过上述吸附部(20、220、420、520)的至少一部分;
加热部(8、608),其将通过上述第2成分处理部(10、610)的上述被处理流体中除上述第1流体以外的部分中的至少一部分即第4流体,加热至温度高于上述被处理流体为止,从而获得第5流体;以及
第2传送部(37、38、56、237、437、537、537a、537b),其使上述第5流体通过上述吸附部(20、220、420、520)中的上述被处理流体经由上述第2成分处理部(10、610)所通过的部分。
8.根据权利要求7所述的流体处理装置(1、501、501A、501B、601),其中
还包括第3传送部(35、37、55、56、536、536a、536b),其使第1冷却用流体通过上述吸附部(20、520)中的上述第5流体所通过的部分,该第1冷却用流体为于上述第2成分处理部(10、610)中经处理的上述被处理流体的一部分、或者于上述第2成分处理部(10、610)中经处理后通过上述吸附部(20、520)的至少一部分的上述被处理流体的一部分,且温度低于上述第5流体。
9.根据权利要求8所述的流体处理装置(501、501A、501B、601),其中
上述第5流体是将通过上述吸附部(520)的上述第1冷却用流体加热所得的流体。
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