[实用新型]一种便于清洗的立式压力容器无效

专利信息
申请号: 201020678961.5 申请日: 2010-12-24
公开(公告)号: CN201884632U 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 林良新 申请(专利权)人: 石狮市宏企压力容器有限公司
主分类号: F16J12/00 分类号: F16J12/00;F16J13/02
代理公司: 泉州市博一专利事务所 35213 代理人: 方传榜
地址: 362712 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 便于 清洗 立式 压力容器
【说明书】:

技术领域

    实用新型涉及一种压力容器,特别是指一种便于清理的立式压力容器。

背景技术

    压力容器是指用于盛装气体或液体,且需要承载一定压力的密闭设备。压力容器广泛应用于石油、化工、航天以及医疗等诸多领域。它按照承受压力的等级分为:低压容器、中压容器、高压容器和超高压容器。立式压力容器是压力容器中较为常见,且应用最为广泛的一种,为了较为方便地去除罐体内的杂质和氧化物,通常会在罐体的下部开设用于日常维护的人孔,而人孔上设有密封装置。使用时通过关闭密封装置可将人孔密封住,当需要清洗时,便将密封装置打开,然后进行清洗。现有的密封装置结构往往较为复杂,其拆装较为麻烦,而且密封效果不是很理想。

实用新型内容

    本实用新型提供了一种便于清洗的立式压力容器,其目的在于克服现有技术存在的密封装置拆装麻烦,密封效果欠佳的缺陷。

本实用新型的技术方案如下:

一种便于清洗的立式压力容器,包括由不锈钢制成的罐体、设于罐体下部的椭圆形的人孔以及与人孔相适配的密封装置,所述密封装置包括焊接于人孔周缘的套筒,该套筒的形状和大小与人孔相适配,且套筒的一端位于罐体的内侧,另一端位于罐体的外侧,所述密封装置还包括密封盖、密封垫圈、两个顶撑杆以及两对螺杆和螺母,所述套筒的外端面与两顶撑杆抵接,套筒的内端面与密封垫圈的一端抵接,密封垫圈的另一端与密封盖抵接,所述密封盖和顶撑杆之间各通过一对螺杆和螺母连接,且螺母位于罐体的外侧。

作为本实用新型的改进,所述顶撑杆对称地设于套筒外端面的短轴的两侧,所述螺杆均贯穿于密封盖,并穿设于顶撑杆的中部。

作为本实用新型的进一步改进,所述人孔的长轴和短轴之比为3:1。

进一步的,所述罐体的外表面以及套筒的内、外表面均涂覆有水性漆层。

由上述对本实用新型的描述可知,和现有技术相比,本实用新型的优点在于:

1、本实用新型的密封装置拆装较为方便,且其密封效果较为理想,使用时,只需同时将两个螺母旋紧,便可使密封装置具有良好的密封效果;当需要清洗时,只要同时将两个螺母旋松,便能轻松取下密封盖,并进行有效地清洗。

2、由于密封盖和顶撑杆之间各通过一对螺杆和螺母连接,密封盖和密封垫圈能更加紧密地顶紧于筒套的内侧面,因此本实用新型的密封装置的密封性能比较理想。

3、由于人孔的长短轴比例为3:1,与人体的构造比较相符,因此工作人员能较为轻松地从人孔钻入压力容器内,并进行有效地清洗。

4、储气罐内的流体往往会对储气罐的内侧壁造成一定的压力,这个压力的方向朝外,它能促使密封盖压紧于密封垫圈以及套筒,从而达到更加良好的密封效果。

5、水性漆层能有效地保护罐体和套筒;另外,水性漆中不含甲醛、苯、二甲苯等有害物质,因此水性漆几乎没有空气污染,其较为绿色环保。

6、不锈钢制成的罐体不易生锈,使用寿命较长。

附图说明

图1为本实用新型的主视图。

图2为图1中沿A-A方向的局部剖视图。

图3为图2中B部分的放大图。

图4为取下密封装置后的立式储气罐的结构示意图。

具体实施方式

下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。

参照图1至图4,一种便于清洗的立式压力容器,包括由不锈钢制成的罐体1、设于罐体1下部的椭圆形的人孔2以及与人孔2相适配的密封装置,人孔2的长轴和短轴之比为3:1,与人体的构造比较相符,因此工作人员能较为轻松地从人孔2钻入压力容器内,并进行有效地清洗。所述密封装置包括焊接于人孔2周缘的套筒3,该套筒3的形状和大小与人孔2相适配,且套筒3的一端位于罐体1的内侧,另一端位于罐体1的外侧,所述密封装置还包括密封盖4、椭圆形的密封垫圈5、两个顶撑杆81、82以及两对螺杆6和螺母7。顶撑杆81、82对称地设于套筒3外端面的短轴的两侧,所述螺杆6均贯穿于密封盖4,并分别穿设于顶撑杆81、82的中部。所述套筒3的外端面与两顶撑杆81、82抵接,套筒3的内端面与密封垫圈5的一端抵接,密封垫圈5的另一端与密封盖4抵接,所述密封盖4和顶撑杆81、82之间各通过一对螺杆6和螺母7连接,且螺母7位于罐体1的外侧。使用时,只需同时将两个螺母6旋紧,便可使密封装置具有良好的密封效果;当需要清洗时,只要同时将两个螺母6旋松,便能轻松取下密封盖4,并进行有效地清洗。

上述仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

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