[实用新型]一种直拉单晶炉用石墨坩埚

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种直拉单晶炉用石墨坩埚，属于单晶硅的生产制造设备领域。

背景技术

单晶硅作为一种半导体材料，一般用于制造集成电路和其他电子元件，单晶硅的生长技术有两种：区熔法和直拉法，其中直拉法是目前普遍采用的方法。直拉法拉制单晶硅需要在一整套的热系统中进行，在拉制过程中处于低真空状态，且不断向单晶炉内充入惰性保护气体以带走由于单晶硅体从溶液结晶时散发的结晶潜热和硅溶液挥发的一氧化硅颗粒，然后从单晶炉的真空抽口由真空泵排出。目前普遍采用的石墨坩埚均为三瓣结构，各瓣的接缝处存在一定的缝隙，在真空泵往外排出一氧化硅时，由一氧化硅和惰性气体组成的混合气体就会从缝隙中穿过，由于一氧化硅会和石墨反应，缝隙处的石墨会被不断侵蚀，时间长了就会断裂，这就降低了石墨坩埚的使用寿命。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种使用寿命长的直拉单晶炉用石墨坩埚。

本实用新型的目的是这样实现的：一种直拉单晶炉用石墨坩埚，它包括石墨坩埚本体，石墨坩埚本体包括三瓣块体，三瓣块体两两接合到一起，组成石墨坩埚本体，接合处存在接缝，其特点是：石墨坩埚本体内表面接缝上均覆盖有石墨纸。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型一种直拉单晶炉用石墨坩埚，其内表面接缝处覆盖有石墨纸，将接缝完全遮盖住，可以避免在生长过程中的混合气体从石墨坩埚各瓣的接缝处穿过，避免一氧化硅对石墨坩埚各瓣接缝处的侵蚀，能极大的提高石墨坩埚的寿命。

附图说明

图1为本实用新型一种直拉单晶炉用石墨坩埚的结构示意图。

其中：

块体1、接缝2、石墨纸3。

具体实施方式

参见图1，本实用新型涉及的一种直拉单晶炉用石墨坩埚，它包括石墨坩埚本体，石墨坩埚本体包括三瓣块体1组成，三瓣块体1两两接合到一起，组成是石墨坩埚本体，接合处存在接缝2，石墨坩埚本体内表面接缝2上均覆盖有长方形的石墨纸3，石墨纸的厚度、长度和宽度根据石墨坩埚的尺寸加以选择。

安装石墨纸3时首先应将石墨坩埚安装好，然后根据石墨坩埚尺寸剪裁合适大小的石墨纸3，并将是石墨纸3覆盖在石墨坩埚内表面的接缝2处，完全将石墨坩埚的接缝2遮盖住，最后将石英坩埚安装在石墨坩埚内。