[实用新型]方便清除杂质的清洗槽

说明书

技术领域

本实用新型属于工业清洗设备技术领域，涉及碳氢工业清洗设备的清洗槽。 

背景技术

清洗槽是工业清洗机中的关键部件。现有的清洗槽在清洗产品时，产品上附着的铁屑等杂质会滞留在进入清洗液中，时间长了会沉淀在清洗槽的底部，而清洗槽底部就是超声波装置。清洗槽底部如果老是沉淀有杂质一方面会影响清洗液的清洗品质，另一方面会给超声波装置增加负担、降低超生波装置的超声波性能，甚至会损害超生波装置。为此，就必须隔段时间对清洗槽进行清洁，将槽底槽底等杂质清除出去，清洁清洗槽不仅要停机而且要先将清洗液排空，然后才能对槽底进行清洁，既费时也费力。 

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能方便清除清洗槽内杂质的清洗槽，以克服现有技术存在的缺陷。 

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下的技术方案： 

一种方便清除杂质的清洗槽，其包括清洗槽本体，其特征在于：所述清洗槽本体旁还设有副槽，所述清洗槽本体槽底为倾斜延伸到副槽的倾斜坡面，所述倾斜坡面的坡底具有通向副槽的出口。

采用上述技术方案，由于增加一个副槽并且将清洗槽本体的槽底设计成倾斜坡面，这样在清洗过程中的铁屑等杂质就会自动沿着倾斜坡面进入副槽中。清洗槽本体中底部没有杂质，就不会对超声波装置造成影响，也不会影响清洗液的清洗品质，并且进入到副槽中的杂质也容易清洁。 

为了更加方便对杂质进行清洁，在本实用新型的进一步改进中，所述清洗槽内设置有滤篮。有了该滤篮，流入副槽内的杂质直接落在绿篮中，清洁时，只需将滤篮从副槽内拎出即可，这样既不需要停机，也不需要将槽内清洗液排空。 

从上述可以看出，本实用新型结构简单、具有方便清理清洗槽内杂质的优点。 

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明： 

图1为本实用新型的结构示意图。

图中： 

100-清洗槽本体，200-副槽，300-倾斜坡面，400-出口，500-滤篮，501-滤网。

具体实施方式

本实用新型的方便清除杂质的清洗槽，是在现有技术的清洗槽基础上的改进，如图1所示，其包括有清洗槽本体100、在清洗槽本体100旁具有一个副槽200,且清洗槽本体100槽底为倾斜延伸到副槽200的倾斜坡面300，在倾斜坡面300的坡底具有通向副槽200的出口400。另外，在副槽200中还设有一个滤篮500。该滤篮500为从侧面看是“L”形结构，其底部具有滤网501。 

清洗槽工作时，滤篮500放置在副槽200内，其底部的滤网501位于副槽200的槽底。这时，从产品上清洗下来的铁屑等杂质就会沿清洗槽本体100底部的倾斜坡面滑落到副槽200中并沉淀在滤篮500的滤网501上。要清理杂质时，只需将滤篮500从清洗槽中拎出即可，既不需要停机，也不需要将清洗液排空，非常方便。 

因此，综上所述，本实用新型具有结构简单、方便清理清洗槽内杂质的优点。 

但是，本领域技术人员应该认识到，上述的具体实施方式只是示例性的，是为了更好的使本领域技术人员能够理解本专利，不能理解为是对本专利包括范围的限制，只要是根据本专利所揭示精神的所作的任何等同变更或修饰，均落入本专利包括的范围。