[实用新型]一种数字模型阻塞器式布源器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种布源器，尤其涉及一种数字模型阻塞器式布源器。

背景技术

上颌恶性肿瘤约占口腔颌面部恶性肿瘤的10％左右，手术常作为此类患者的首选治疗方法。按照恶性肿瘤切除的手术原则，上颌恶性肿瘤的手术治疗需切除部分乃至全部上颌骨，从而造成组织缺损和口鼻腔瘘，对患者的容貌、进食及语言等功能造成影响。而且，上颌骨周围涉及许多重要组织，恶性肿瘤的进一步扩大切除常受到许多限制，造成肿瘤残留或切缘阳性，术后需要追加放射治疗。但常规外放射治疗易引起皮肤坏死，伤口不愈合、口干、放射性龋齿、张口受限及放射性骨坏死等并发症，严重影响患者的生活质量。因此，需要探讨一种既能保证疗效，又能尽量保存患者器官功能的方法。

放射性粒子组织间近距离治疗恶性肿瘤有高度的“适形”性，局部控制率高，且创伤和副反应小，是一种较理想的放射治疗方式。放射性粒子近距离治疗指应用放射性同位素技术在距肿瘤5cm的范围甚至在肿瘤组织内进行治疗，使肿瘤组织获得治疗所需的放射剂量。放射性粒子近距离放疗采用低能量放射源，放射线在组织中迅速衰减，对周围正常组织的照射剂量远低于肿瘤组织。

与传统的体外照射相比，近距离放疗具有以下优点：近距离放疗采用近距离(0.5～5cm)照射，因此放射源的放射性活度小；近距离放疗射线能量大部分被组织吸收，而体外放疗大部分能量被准直器、限束器等屏蔽；近距离放疗过程中，离放射源近的组织剂量高，离放射源远的组织剂量较低，而对于体外照射，射线必须经过皮肤和正常组织才能达到肿瘤，为了得到高而均匀的肿瘤剂量，通常需要选择各种不同能量的射线和多野照射等较为繁杂的技术。近距离放疗中，因肿瘤靶区邻近放射源，射线的能量大部分被肿瘤组织吸收，从而可以大大提高对肿瘤的照射剂量；另一方面，肿瘤靶区外的剂量下降很快，周边正常组织受照射量较小，从而显著降低了正常组织的放射性损伤。

图1为目前国内常用的永久性植入放射性粒子源的结构示意图。该放射性粒子源100包括外壳101、放射性粒子层102、内芯103。外壳101呈圆柱体，长度4.5mm，横截面直径0.8mm，主要材料为镍钛合金。放射性粒子层102由起治疗作用的放射性粒子源形成。内芯103的主要材料为银，植入到人体后作为标识体，在x射线照射下可显示放射性粒子源100在人体内的位置。端头104为将带有放射性粒子层102的内芯103放入外壳101后通过激光焊接形成的圆形端头。

尽管粒子体积很小，但是上颌骨表面粘膜非常薄，无法承载粒子。在进行上颌骨恶性肿瘤的放射性粒子源治疗中，很难或者无法按照治疗计划要求植入放射性粒子源。这就产生了放射治疗中的放疗“冷区”，影响了肿瘤的局部控制率。另外，对于T3-T4期的肿瘤，实施手术后组织器官缺损较大，无法采用现有的布源器进行治疗。

在国际TNM分期法中根据肿瘤(Tumor)的大小，将肿瘤分为4个阶段，分别用T1、T2、T3和T4来表示，以说明癌细胞在每个方面侵犯的严重程度和范围。处于T1期的肿瘤最大直径小于2cm；处于T2期的肿瘤最大直径为2～4cm；处于T3期的肿瘤最大直径超过4cm；T4期为肿瘤穿透包膜，并直接侵犯相邻结构的情况。

因此，目前需要一种布源器，易于固定在表面粘膜较薄而无法承载粒子，并且术后缺损较大的组织器官周围。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本实用新型的实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

为了解决上述技术问题，本实用新型公开了一种数字模型阻塞器式布源器，包括：布源件，具有与患者术后口腔上颌的缺损外形相适形的外部轮廓，并且在所述布源件的外表面具有凹槽；底座，连接在所述布源件的下部；以及放射性粒子源，放置在所述凹槽内，其中，在包含所述数字模型阻塞器式布源器的中垂线的至少一个截面上，所述布源件和所述底座的连接处的宽度小于所述布源件的最大宽度和所述底座的最大宽度。

根据本实用新型的一个方面，所述底座是与所述布源件一体成型的底座。

根据本实用新型的一个方面，所述凹槽的尺寸与所述放射性粒子源的尺寸相同。

根据本实用新型的一个方面，所述布源件和所述底座具有弹性。

根据本实用新型的一个方面，所述凹槽单层多行平行排列，且相邻凹槽的中心之间的间距为8mm～10mm。

根据本实用新型的一个方面，所述凹槽沿水平方向排列。