[发明专利]用于二沉池的紫外消毒装置及二沉池消毒系统无效
申请号: | 201010621421.8 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102557184A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 王培;霍洪谊;温源 | 申请(专利权)人: | 上海广茂达光艺科技股份有限公司 |
主分类号: | C02F1/32 | 分类号: | C02F1/32 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;朱水平 |
地址: | 200233 上海市徐*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 二沉池 紫外 消毒 装置 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种水体消毒装置,特别是涉及一种用于二沉池的紫外消毒装置及二沉池消毒系统。
背景技术
一沉池用于进行污水的初步沉淀脱去悬浮物,不溶物。然后将初步处理后的污水送入消化池,进行氧消化或者厌氧消化,或者以不同顺序串联。经生物消化后的污水,就被送入了二沉池。二沉池主要用于回收生物污泥,然后将水体送至消毒系统对其经消毒过滤等,最后由消毒系统排出完成消毒作业的水。
紫外消毒作为一种不产生消毒副产物的物理消毒技术,迅速被人们所接受,并在世界范围内投入实际应用。
如图1所述,现有技术中用于回收生物污泥的二沉池1和用于消毒水体(自二沉池处理后的水)的紫外消毒系统2为各自独立。水管21将二沉池1的出水口与紫外消毒系统2的进水口连通,消毒后的水经由紫外消毒系统2的出水管道22排出。两者功能独立,对水体进行分步处理,导致整个水体消毒系统庞大,占用较多的使用面积,建造成本较高;另一方面,由于现有的水体消毒装置多采用低压汞灯,因此存在一定安全隐患,若汞灯损坏容易照成水体污染。
发明内容
本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中的二沉池与紫外消毒装置各自独立设置,导致水体消毒系统占地面积较大,建造成本较高的缺陷,提供一种用于二沉池的紫外消毒装置及二沉池消毒系统。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:
一种用于二沉池的紫外消毒装置,其特点在于,其包括:至少一消毒模组,该消毒模组包括至少一块电路板,所述电路板上设有若干紫外LED发光元件,所述紫外LED发光元件发射波长范围为250nm-270nm;以及一罩设在该消毒模组外的灯罩。
其中,该紫外消毒装置还包括一用于控制所述紫外LED发光元件的控制单元。
其中,所述紫外LED发光元件在该电路板上呈均匀分布或不均匀分布。紫外LED发光元件在电路板上的布局可根据水体的流量、流速进行调整,以适应不同情况下的消毒需求。
其中,该灯罩内设有用于支撑所述电路板的支撑部件,使得电路板在灯罩内更为稳固。
其中,该灯罩的至少一个表面为透光板,使得紫外光能更有效地投射到待消毒的水体中。
其中,所述透光板采用石英材料制成的。
本发明还提供了一种二沉池消毒系统,其包括一座具有溢流槽的二沉池,以及一与该二沉池连接的控制箱,其特点在于,该二沉池消毒系统还包括所述的用于二沉池的紫外消毒装置,所述紫外消毒装置设置于该溢流槽中。将紫外消毒装置整合于二沉池的溢流槽中,从而无需单独设置消毒装置,节省了消毒系统的占地面积,同时简化了水处理的过程。
其中,所述紫外消毒装置为两个或两个以上;所述紫外消毒装置的控制单元均容置于该控制箱中。
其中,所述紫外消毒装置固定于该溢流槽的槽底或者槽壁上。
本发明中,上述优选条件在符合本领域常识的基础上可任意组合,即得本发明各较佳实例。
本发明的积极进步效果在于:本发明中的用于二沉池的紫外消毒装置采用LED发光元件替代现有技术中的低压汞灯,消除了低压汞灯的可能造成水体污染的安全隐患。本发明中的二沉池消毒系统,有效地将紫外消毒装置与二沉池整合在一起,节省了水体消毒系统的占地空间和建造成本,使传统的二沉池具备了杀菌功能。
附图说明
图1为现有技术中水体依次流经二沉池紫外消毒装置的消毒过程示意图。
图2为本发明中的用于二沉池的紫外消毒装置的立体结构示意图。
图3为本发明中的二沉池消毒系统的立体结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图给出本发明较佳实施例,以详细说明本发明的技术方案。
如图2所示,本发明中用于二沉池的紫外消毒装置3包括一个盒式结构的灯罩31,以及两组容置在灯罩31内的消毒单元,且两组消毒单元相互平行设置。
每组消毒单元均包括了一块电路板33,在电路板33相对灯罩31的一侧上均设有多个以矩阵形式排布紫外LED发光元件34,且电路板33上的紫外LED发光元件34为均匀分布。本实施例中的紫外LED发光元件的反射光的波长为265nm。该电路板33通过灯罩31内壁上的支撑部件35固设于灯罩31的内部。所述电路板可以铝板,且两块电路板上设置的紫外LED发光元件的布局相同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海广茂达光艺科技股份有限公司,未经上海广茂达光艺科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010621421.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。