[发明专利]成像设备有效

专利信息
申请号: 201010592190.2 申请日: 2010-12-13
公开(公告)号: CN102098432A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 山田英一郎;菅沼宽;小林勇仁 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;G02B5/08
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 陈源;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种成像设备,包括:

成像光学系统,用于通过引导从被照明光照射的物体反射的光来进行成像;

摄像单元,用于拍摄通过所述成像光学系统成像的光;

参考反射镜,被设置在被照明光照射的位置处,所述位置位于所述摄像单元的视场的一部分内;以及

运算单元,用于通过使用由所述摄像单元拍摄到的图像中参考反射镜的图像部分的值,来校正所述物体的图像部分的值。

2.根据权利要求1所述的成像设备,

其中,所述成像光学系统包括其光路上的通带可变的液晶可调滤光器。

3.根据权利要求1所述的成像设备,

其中,所述参考反射镜布置在所述摄像单元的视场的中心部分处于其间的两个位置处。

4.根据权利要求2所述的成像设备,

其中,所述参考反射镜设置在存在所述液晶可调滤光器的透射率不规则性的方向上的两个位置处,所述摄像单元的视场的中心部分位于所述两个位置之间。

5.根据权利要求1所述的成像设备,

其中,所述参考反射镜由镜面抛光的金属板制成。

6.根据权利要求1所述的成像设备,

其中,所述参考反射镜由具有金属涂层的板制成。

7.根据权利要求1所述的成像设备,

其中,所述参考反射镜由反射型漫射板制成。

8.根据权利要求3或4所述的成像设备,

其中,所述运算单元包括第一运算单元和第二运算单元,所述第一运算单元通过使用设置在所述两个位置处的所述参考反射镜的图像部分的值,计算与所述物体的图像部分的每个位置相对应的校正因子,所述第二运算单元通过使用所述校正因子对每个位置的值进行归一化。

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