[发明专利]按键装置有效

专利信息
申请号: 201010266123.1 申请日: 2010-08-27
公开(公告)号: CN102376468A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 颜铭甫 申请(专利权)人: 旭丽电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司
主分类号: H01H3/12 分类号: H01H3/12;H01H13/705
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 510663 广东省广州市广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 按键 装置
【权利要求书】:

1.一种按键装置,包含一基板、一电路单元、一键帽、一触压元件以及一支撑杆,该基板具有一板本体以及一孔座,该板本体具有一顶面,该孔座连接于该板本体顶面并且形成一横向延伸的通孔,该电路单元设置于该基板的板本体顶面并且包括多数层结构,该键帽位于该电路单元上方,该触压元件为可挠性材质设置于该键帽下方,该支撑杆具有相连接的一第一杆部与一第二杆部,该第一杆部枢设于该键帽,该第二杆部穿设于该孔座的通孔,其特征在于:

该电路单元还包括一由其中一层结构凸出形成并且间隔于该基板的板本体顶面上方的活动舌片,该活动舌片具有一邻近该孔座的端部,且该活动舌片位于该第二杆部下方并且该端部抵触于该第二杆部而支撑该第二杆部往上与该孔座接触。

2.如权利要求1所述的按键装置,其特征在于:所述层结构包括一第一电路层、一位于该第一电路层上方的第二电路层以及一结合于该第一电路层与该第二电路层之间的间隔层,该第二电路层形成有至少一第一沟槽,该第一沟槽界定出该活动舌片,该第一电路层对应于该活动舌片下方的区域形成有一第二沟槽,该间隔层对应于该活动舌片下方的区域形成有一连通该第二沟槽的第三沟槽。

3.如权利要求2所述的按键装置,其特征在于:该第二电路层还形成有一连通该第一沟槽一端的第一开口,该第一电路层还形成有一连通该第二沟槽一端的第二开口,该间隔层还形成有一连通该第三沟槽一端的第三开口,所述第一开口、第二开口与第三开口相对应连通而界定出一镂空区,该电路单元通过镂空区套设于该孔座,使该活动舌片的端部邻近该孔座。

4.如权利要求3所述的按键装置,其特征在于:该第二电路层形成有两第一沟槽,所述第一沟槽同向的一端连通该第一开口,所述第一沟槽之间界定出该活动舌片,该活动舌片的一凸出方向与该通孔的延伸方向相平行。

5.如权利要求1所述的按键装置,其特征在于:所述层结构包括一第一电路层、一位于该第一电路层上方的第二电路层以及一结合于该第一电路层与该第二电路层之间的间隔层,该间隔层形成有至少一第一沟槽,该第一沟槽界定出该活动舌片,该第一电路层对应于该活动舌片下方的区域形成有一第二沟槽,该第二电路层对应于该活动舌片上方的区域形成有一第三沟槽。

6.如权利要求5所述的按键装置,其特征在于:该间隔层还形成有一连通该第一沟槽一端的第一开口,该第一电路层还形成有一连通该第二沟槽一端的第二开口,该第二电路层还形成有一连通该第三沟槽一端的第三开口,所述第一开口、第二开口与第三开口相对应连通而界定出一镂空区,该电路单元通过该镂空区套设于该孔座,使该活动舌片的端部邻近该孔座。

7.如权利要求6所述的按键装置,其特征在于:该间隔层形成有两第一沟槽,所述第一沟槽同向的一端连通该第一开口,所述第一沟槽之间界定出该活动舌片,该活动舌片的一凸出方向与该通孔的延伸方向相平行。

8.如权利要求3或6所述的按键装置,其特征在于:该第一沟槽呈L型并且与该第一开口配合界定出该活动舌片,该活动舌片的一凸出方向与该通孔的延伸方向相垂直。

9.一种按键装置,包含一基板、一片体、一触压元件、一键帽以及一支撑杆,该基板具有一板本体以及一孔座,该板本体具有一顶面,该孔座连接于该板本体顶面并且界定出一横向延伸的通孔,该片体设置于该基板,该触压元件凸出该片体,该键帽设置于该触压元件上,该支撑杆具有相连接的一第一杆部与一第二杆部,该第一杆部枢设于该键帽,该第二杆部穿设于该孔座的通孔,其特征在于:

该片体形成有一间隔于该基板板本体顶面上方的活动舌片,该活动舌片具有一邻近该孔座的端部,且该活动舌片位于该第二杆部下方并且该端部抵触于该第二杆部而支撑该第二杆部往上与该孔座接触。

10.如权利要求9所述的按键装置,其特征在于:该片体设有至少一第一沟槽以及一端连通该第一沟槽的一第一开口,该第一沟槽与该第一开口配合界定出该活动舌片。

11.如权利要求10所述的按键装置,其特征在于:该第一沟槽呈L型。

12.如权利要求10所述的按键装置,其特征在于:该片体设有一对第一沟槽,所述第一沟槽同向的一端与该第一开口连通,所述第一沟槽之间配合界定出该活动舌片。

13.如权利要求9所述的按键装置,其特征在于:该按键装置还包含一设置于该基板的板本体顶面与该片体之间的电路单元,该电路单元对应于该活动舌片下方形成有一凹陷空间,使该活动舌片具有可往下变形的空间。

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