[发明专利]用于均匀化二极管激光器泵浦阵列的方法和系统

权利要求书

1.一种光放大器系统，包括：

二极管泵浦阵列，其包括多个半导体二极管激光棒，所述半导体二极管激光棒被布置为阵列结构并且以相邻半导体二极管激光棒之间的周期性距离为特征，所述周期性距离是在垂直于所述多个半导体二极管激光棒中的每个的第一方向上测量的，其中所述二极管泵浦阵列提供泵浦输出，所述泵浦输出沿光路传播并且以根据所述第一方向测量的、具有大于10％的变化的第一强度分布为特征；

沿所述光路布置的衍射镜片，其中所述衍射镜片包括光热折射玻璃构件；以及

放大器板条，其具有沿所述光路的输入面和位置，并且与所述衍射镜片间隔预定距离，其中根据所述第一方向在所述放大器板条的所述输入面处测量的第二强度分布具有小于10％的变化。

2.根据权利要求1所述的光放大器系统，其中，所述光热折射玻璃构件包括折射率的连续变化。

3.根据权利要求1所述的光放大器系统，其中，所述光热折射玻璃构件基本上没有正弦光栅结构。

4.根据权利要求3所述的光放大器系统，其中，所述光栅结构是周期的或者啁啾的。

5.根据权利要求1所述的光放大器系统，还包括沿所述光路在所述衍射镜片与所述放大器板条之间布置的一个或更多个透镜。

6.根据权利要求1所述的光放大器系统，其中，所述光热折射玻璃构件具有与第二平面表面相对的第一平面表面。

7.根据权利要求1所述的光放大器系统，其中，所述第一强度分布具有10％与300％之间的变化。

8.根据权利要求7所述的光放大器系统，其中，所述第一强度分布具有10％与100％之间的变化。

9.根据权利要求8所述的光放大器系统，其中，所述第一强度分布具有10％与50％之间的变化。

10.根据权利要求1所述的光放大器系统，其中，所述第二强度分布具有1％与10％之间的变化。

11.根据权利要求10所述的光放大器系统，其中，所述第二强度分布具有2％与5％之间的变化。

12.一种制造衍射均匀器的方法，所述方法包括：

提供部分透射光学元件，其上具有预定灰度强度图案；

提供透明光学元件；

导引UV辐射通过所述部分透射光学元件以入射到所述透明光学元件；

使所述透明光学元件的预定部分在所述UV辐射下曝光；以及

对所述透明光学元件进行热处理以制造所述衍射均匀器，所述衍射均匀器的特征在于，根据所述透明光学元件内的位置而连续变化的折射率分布。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述连续变化的折射率分布的特征在于，与针对光学辐射的衍射效应相关联的尺寸。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述透明光学元件包括一片光热折射(PTR)玻璃。

15.根据权利要求12所述的方法，还包括使所述透明光学元件的第二预定部分在所述UV辐射下曝光。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述预定灰度强度图案的面积小于所述透明光学元件的所述预定部分的面积并且小于所述透明光学元件的所述第二预定部分的面积。

17.根据权利要求12所述的方法，其中，所述部分透射光学元件包括摄影图像。

18.根据权利要求12所述的方法，其中，所述部分透射光学元件包括空间光调制器阵列。

19.根据权利要求12所述的方法，其中，所述透明光学元件包括PTR玻璃。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述PTR玻璃包括长方体，并且所述UV辐射在垂直于所述长方体的最小维的面上入射到所述长方体。