[发明专利]控制透镜像质变化的方法

权利要求书

1.一种控制透镜像质变化的方法，其特征在于，在利用光刻机进行曝光前，对所述光刻机的透镜进行预热或预冷处理。

2.根据权利要求1所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，所述预热或预冷处理，具体包括以下步骤：

设置热平衡态的阈值Y；

判断是否进行预热或预冷；

如需预热或预冷，则根据热平衡态表征参数C和所述热平衡态的阈值Y计算出预热或预冷时间，并根据所述预热或预冷时间对所述透镜进行预热或预冷处理。

3.根据权利要求1或2所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，对所述透镜进行预热或预冷在曝光过程中每次切换掩模图像时进行。

4.根据权利要求2所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，所述热平衡态是指在前一片基底曝光完毕，下一片基底曝光时，第一个场的吸热和散热达到平衡的状态。

5.根据权利要求2所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，所述热平衡态的阈值Y为小于或等于1的正数。

6.根据权利要求5所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，所述热平衡态的阈值的取值范围是0.8≤Y≤1。

7.根据权利要求2所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，判断是否进行预热或预冷的具体步骤：

定义像质变化的约束范围；

根据当前的热效应状态标征参数，预先估算出在不预热或不预冷的条件下、曝光时的像质变化，如果该像质变化超出了所述约束范围，则需要进行预热或预冷。

8.根据权利要求2所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，计算所述热平衡态表征参数C的热效应方程为

C＝(C×exp(-t3/Tau)+Mu*(1-exp(-t3/Tau))×RtTrans×WfCorr×Dose×AreaSize/t3)×exp(-t4/Tau)；

其中，t3为一个曝光场的曝光时间；t4为一个曝光场曝光结束到下一个曝光场曝光开始前所经历的时间；Mu为比例因子；Tau为时间常数；RtTrans为掩模透过率；WfCorr为硅片反射率；Dose为曝光剂量；AreaSize为曝光场面积。

9.根据权利要求8所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，Cy＝C×Y，其中Cy为阈值热平衡态表征参数。

10.根据权利要求9所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，根据公式：

计算预热时间

Cy/exp(-t2/Tau)＝A×exp(-t1/Tau)+Mu*(1-exp(-t1/Tau))×RtTrans×WfCorr×Dose×AreaSize/t1；

计算预冷时间

Cy/exp(-t2/Tau)＝A×exp(-t1/Tau)；

计算出预热或预冷时间t1；预热或预冷结束到曝光开始所经历的时间t2；其中A是当前的热效应状态表征参数。

11.根据权利要求2或10所述的控制透镜像质变化的方法，其特征在于，设定处理时间阈值，当上述计算出预热或预冷时间大于或等于处理时间阈值时，进行上述预热或预冷处理。