[发明专利]磁共振成像方法及装置无效
| 申请号: | 201010255677.1 | 申请日: | 2010-08-17 |
| 公开(公告)号: | CN101915901A | 公开(公告)日: | 2010-12-15 |
| 发明(设计)人: | 翁卓;谢国喜;邹超;刘新;邱本胜;熊承义;郑海荣 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
| 主分类号: | G01R33/48 | 分类号: | G01R33/48;G01R33/565 |
| 代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 吴平 |
| 地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁共振 成像 方法 装置 | ||
1.一种磁共振成像方法,包括如下步骤:
对视野校准扫描得到多个复合图像,对多个复合图像进行绝对值求和得到求和图像,并根据所述多个复合图像及求和图像计算得到灵敏度系数;
校正所述灵敏度系数,并生成重建图像。
2.根据权利要求1所述的磁共振成像方法,其特征在于,所述校正所述灵敏度系数,并生成重建图像的步骤之前还包括校正所述复合图像偏差场的步骤。
3.根据权利要求2所述的磁共振成像方法,其特征在于,所述校正所述复合图像中的偏差场的步骤是:
对复合图像预处理,得到掩模;
将所述掩模作用于复合图像中以抽取组织部分图像,并对所述组织部分图像进行对数变换,得到加性偏差场;
根据加性偏差场和掩模,通过高斯低通滤波器和归一化卷积得到初步估计的偏差场;
对初步估计的偏差场进行B样条拟合得到精确估计的偏差场,并通过测量得到的图像灰度与所述精确估计的偏差场之比得到校正的复合图像。
4.根据权利要求3所述的磁共振成像方法,其特征在于,所述对复合图像预处理,得到掩膜的步骤是:
在复合图像中测量得到灰度图像,通过所述灰度图像得到所述灰度图像中点的亮度最大值,设定阈值为最大亮度的百分比,低于阈值部分设为0,组织部分设为1,形成二值图像,得到掩膜。
5.根据权利要求3所述的磁共振成像方法,其特征在于,所述校正所述灵敏度系数,并生成重建图像的步骤是:
通过参考图像与在视野扫描中获得的复合图像的拟合得到残差;
引入退火参数,将所述残差导入连接强度函数中,得到所述连接强度函数的值,所述连接强度函数的值作为对角矩阵对角线上的元素;
通过复数图像、对角矩阵以及灵敏度系数得到无伪影复合图像。
6.一种磁共振成像装置,其特征在于,至少包括:
相控阵列线圈,用于对视野扫描得到多个复合图像、以及相对应的复数图像;
计算装置,用于根据所述多个复合图像得到求和图像,并根据所述多个复合图像及求和图像计算得到灵敏度系数;
图像重建装置,用于校正所述灵敏度系数,并生成重建图像。
7.根据权利要求6所述的磁共振成像装置,其特征在于,还包括:
亮度校正装置,用于校正所述复合图像中的偏差场。
8.根据权利要求7所述的磁共振成像装置,其特征在于,所述亮度校正装置至少包括:
掩模处理模块,用于对复合图像预处理,得到掩模;
组织变换模块,用于将所述掩模作用于复合图像中以抽取组织部分图像,并对所述组织部分图像进行对数变换,得到加性偏差场;
预校正模块,用于根据加性偏差场和掩模,通过高斯低通滤波器和归一化卷积得到初步估计的偏差场;
平滑模块,用于对初步估计的偏差场进行B样条平滑拟合得到精确估计的偏差场,并通过测量得到的图像灰度与所述精确估计的偏差场之比得到校正的复合图像。
9.根据权利要求8所述的磁共振成像装置,其特征在于,所述掩模处理模块还用于在复合图像中测量得到灰度图像,通过所述灰度图像得到所述灰度图像中点的亮度最大值,设定阈值为最大亮度的百分比,低于阈值部分设为0,组织部分设为1,形成二值图像,以得到掩模。
10.根据权利要求8所述的磁共振成像装置,其特征在于,所述图像重建装置至少包括:
拟合模块,用于通过参考图像与所述复合图像的拟合得到残差;
估计模块,用于引入退火参数,将所述残差导入连接强度函数中,得到所述连接强度函数的值,所述连接强度函数的值作为对角矩阵中对角线上的元素;
图像生成模块,用于通过复数图像、对角矩阵以及灵敏度系数得到无伪影复合图像。
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