[发明专利]干涉膜厚仪及反射率测量方法

说明书

技术领域

本发明涉及干涉膜厚仪等，特别是涉及对作为测量对象的检查工件的光反射率进行测量的反射率测量装置及反射率测量方法。

背景技术

如专利文献1所示，所谓的干涉膜厚仪，向作为测量对象的膜体等检查工件照射测量光，或得干涉光的光谱，根据测量得到的光谱求出检查工件的膜厚，所述干涉光由被检查工件表面反射的反射光与透过检查工件的内部并在相反一侧的界面上反射后从表面出来的透过反射光形成。

在这样的干涉膜厚仪中，需要测量检查工件的光学反射率。为此，以往如图1所示，从光源1’分别向反射率已知且固定的校正试样SP_r及对光完全不反射的黑试样SP_b照射光，测量在各种情况下的光检测器2’的输出值。然后用以下公式(计算式1)求出检查工件SP_s的光学反射率R_s。此外，测量黑试样SP_b是因为由于在没有反射光的状态下，光检测器2’的输出值显示偏移量，所以要消除该偏移量。

[计算式1]

Rs=Is-IbIr-IbRr]]>

其中，I_s是关于检查工件SP_s的光检测器2’的输出值，I_r是关于校正试样SP_r的光检测器2’的输出值，I_b是关于黑试样SP_b的光检测器2’的输出值，R_r是校正试样SP_r的光学反射率(已知)。

专利文献1：日本专利公开公报特开2005-3401号。

但是，实际上，由于认识到I_r和I_b的值随时间有很大变化，因此以往每次测量检查工件SP_s，都要求出关于校正试样SP_r和黑试样SP_b的光检测器2’的输出值。

可是，为此，每次都必须更换各个试样等，测量中会产生浪费工夫和时间的问题。特别是必须使校正试样SP_r距检测头(ヘツド)4’的距离等具有与检查工件SP_s几乎相同的条件，在该测量中所浪费的工夫和时间相当大。

所以，例如如图2所示，开发出一种装置，使检测头4’为可动式，通过使所述检测头4’移动来测量放置在与检查工件SP_s不同位置的校正试样SP_r和黑试样SP_b。但是，在这种情况下，装置结构变得复杂，导致价格提高。

发明内容

鉴于上述问题，本发明所要解决的主要问题是：在测量检查工件的光反射率时，可以省掉每次都必须进行的附带的测量(特别是校正试样的测量)，促进缩短测量时间以及简化装置的结构。

即，本发明提供一种干涉膜厚仪，其特征在于包括：下述(1)～(4)所示的检测头、光检测器、内部反射机构以及反射率计算部，

(1)所述检测头，用于把测量光射向对象物，并且导入来自所述测量光所照射的所述对象物的反射光；

(2)所述光检测器，检测接收到的光的强度，所述光检测器的光接收部被配置在导入所述检测头内的所述反射光到达的位置；

(3)所述内部反射机构，位于所述检测头内的一部分所述测量光到达的位置，并且配置在使被所述内部反射机构反射的光到达所述光检测器的光接收部的位置，所述内部反射机构的光反射率是固定的；