[发明专利]与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物无效

专利信息
申请号: 201010233728.0 申请日: 2010-05-20
公开(公告)号: CN101935492A 公开(公告)日: 2011-01-05
发明(设计)人: A·赞皮尼;G·B·韦顿;V·简恩;刘骢;S·克雷;O·昂格伊 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: C09D167/00 分类号: C09D167/00;G03F7/09;G03F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 光刻 一起 使用 涂料 组合
【权利要求书】:

1.一种与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物,该涂料组合物包含一种包含氰尿酸酯基团和疏水性基团的树脂。

2.如权利要求1所述的涂料组合物,其中疏水性基团选自羟基和醚。

3.如权利要求1所述的涂料组合物,其中所述树脂由包含氰尿酸酯化合物的反应物制得,所述氰尿酸酯化合物的多个氰尿酸酯氮环原子被不同的羧基和/或羧基酯基取代。

4.如权利要求3所述的涂料组合物,其中所述氰尿酸酯化合物对应于下列式I:

其中所述基团R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)n-中至少两个是不同的酸或酯基团;和

R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基;和

n和m相同或不同,各自是一个整数。

5.如权利要求1-4中任一项所述的涂料组合物,其中所述树脂包含共价键链接的交联剂基团。

6.如权利要求1-5中任一项所述的涂料组合物,其中所述树脂包含聚酯键。

7.一种涂敷的基材,所述基材包含:

权利要求1-6中任一项所述的减反射组合物层;

在所述涂料组合物层之上的光刻胶层。

8.一种形成光刻胶浮雕像的方法,所述方法包括:

在基材上涂覆权利要求1-8中任一项所述的减反射涂料组合物;

在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物;和

曝光和显影所述光刻胶层,从而制得光刻胶浮雕像。

9.如权利要求9所述的方法,其中所述减反射组合物在涂覆所述光刻胶组合物之前交联。

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