[发明专利]一种大视场宽谱线光刻投影物镜

权利要求书

1.一种光刻投影物镜，用于把位于所述投影物镜的物平面内的图案投射到所述投影物镜像平面内，其特征在于从所述物平面开始沿光轴依次设置：

具有正光焦度的第一透镜组；

具有负光焦度的第二透镜组；

具有正光焦度的第三透镜组；

孔径光阑；

具有正光焦度的第四透镜组，；所述第四透镜组与第三透镜组关于孔径光阑对称；

具有负光焦度的第五透镜组；所述第五透镜组与第二透镜组关于孔径光阑对称；以及

具有正光焦度的第六透镜组；所述第六透镜组与第一透镜组关于孔径光阑对称；

其中，所述第一透镜组满足以下关系式：

1.2＜f1/f＜4.0

55＜V_1-1＜82

0.370＜P_1-1＜0.373

26＜V_1-2＜33

0.354＜P_1-2＜0.360

其中：f为第一第二第三透镜组的总焦距；f1为第一透镜组的焦距；

V_1-1为第一透镜组中第一个透镜材料的阿贝数，定义为V＝(Nh-1)/(Ni-Ng)；

P_1-1为第一透镜组中第一个透镜材料的相对色散，P＝(Nh-Ng)/(Ni-Ng)；

V_1-2为第一透镜组中第二个透镜材料的阿贝数，定义同上；

P_1-2为第一透镜组中第二个透镜材料的相对色散，定义同上；

所述第二透镜组满足以下关系式：

f2/f＜-0.8

30＜V_2n＜55

0.358＜P_2n＜0.371

其中：f为第一第二第三透镜组的总焦距；f2为第二透镜组的焦距；

V_2n为第二透镜组中负透镜材料的阿贝数，定义为V＝(Nh-1)/(Ni-Ng)；

P_2n为第二透镜组中负透镜材料的相对色散，P＝(Nh-Ng)/(Ni-Ng)；

所述第三透镜组满足以下关系式：

0.4＜f3/f＜3

55＜V_3-1，2＜82

0.370＜P_3-1，2＜0.373

30＜V_3-3＜55

0.358＜P_3-3＜0.371

其中：f为第一第二第三透镜组的总焦距；f3为第三透镜组的焦距；

V_3-1，2为第三透镜组中第一和第二透镜材料的阿贝数，定义为V＝(Nh-1)/(Ni-Ng)；

P_3-1，2为第三透镜组中第一和第二透镜材料的相对色散，定义为P＝(Nh-Ng)/(Ni-Ng)；

V_3-3为第三透镜组中第三透镜材料的阿贝数，定义同上；

P_3-3为第三透镜组中第三透镜材料的相对色散，定义同上。

2.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于第一透镜组由负透镜，正透镜组成；负透镜为双凹透镜，正透镜为双凸透镜。

3.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于第一透镜组由负透镜，第一正透镜，第二正透镜组成；负透镜为双凹透镜，第一正透镜为弯月透镜，弯月透镜凹面朝向掩模；第二正透镜为弯月透镜，弯月透镜凹面朝向掩模。

4.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于第二透镜组由第一正透镜，负透镜，第二正透镜组成；第一正透镜为弯月型，凹面朝向掩模；负透镜为双凹透镜；第二正透镜为双凸透镜。

5.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于第二透镜组由负透镜，正透镜组成；负透镜为双凹透镜；正透镜为双凸透镜。

6.根据权利要求1所述的光刻投影物镜，其特征在于第三透镜组由第一正透镜，第二正透镜，负透镜，第三正透镜组成；第一正透镜为双凸透镜；第二正透镜为双凸透镜；负透镜为双凹透镜；第三正透镜为弯月型透镜，凹面朝向硅片面。