[发明专利]一种抗静电耐磨UV涂料及其制备方法无效
申请号: | 201010190216.0 | 申请日: | 2010-06-02 |
公开(公告)号: | CN101851466A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 沈剑锋 | 申请(专利权)人: | 长沙华良涂料有限公司 |
主分类号: | C09D175/14 | 分类号: | C09D175/14;C09D163/00;C09D4/02;C09D7/12 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410600 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抗静电 耐磨 uv 涂料 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于材料领域,具体涉及一种抗静电耐磨UV涂料及其制备方法。
背景技术
抗静电涂料是一组体积电阻率在一定范围内的特种功能涂料。它最早的研究记载是在美国公布的导电胶专利。日本早就研究出银系和炭系为主的抗静电涂料,并应用于电子工业和军事领域。我国在这方面的研究起步较晚,但发展较快,尤其自九十年代国家强制性要求石油罐采用抗静电涂料以来,这类涂料在石油罐方面的应用迅速发展起来。
同时,随着高新技术的发展和高分子材料的广泛应用,在一些电子行业,如电子电器的厂房、计算机房静电问题也十分突出,静电导致电子元器件损害甚至失效,妨碍了生产过程和产品质量。而印刷厂、纺织厂、制药厂及医院的手术室,均要求洁净无尘、无静电。以前,在需要采用防静电地面的场所,大多采用粘贴防静电板材的方法;这种地板一般采用基于木质基材然后贴上抗静电贴膜的方式或者采用全金属材质(钢、铝合金)、PVC塑料类等几大类,均存在装饰效果差或价格高昂等弊端。
抗静电涂料按其成膜物质是否具有导电性分为两类:1)由具有导电性的聚合物为成膜物而不必另加导电材料的本征型抗静电涂料,此类涂料的合成、施工存在很多困难,成本也比较高;2)应用最多的是添加型,它是导电填料、绝缘性成膜物、助剂和溶剂的混合物,利用导电填料的导电作用产生防静电效果,其中按照导电填料的不同又分为如下几类:
有机类的导静电剂;
炭系石墨、炭黑、炭纤维;
金属类银、镍、铜;
金属氧化物包覆物。
上述抗静电涂料种类各有优缺点。金属填料类,由于其价格昂贵、比重大、易氧化、而使用受到限制。目前,在复合金属填料材料的研究方面非常活跃,如银包玻璃珠等材料,降低了成本,节约了资源,尽管如此,目前其主要应用于军事方面。炭系列填料虽然价格便宜,但具有颜色深、不易分散、电性能不稳定的缺点。本发明采用纳米导电材料——导电凹凸棒石作为导电填料,凹凸棒石又名坡缕石或坡缕缟石,是一种层链状结构的含水富镁铝硅酸盐粘土矿物。它具有纳米材料的属性,是具有纳米通道结构的天然纳米结构矿物材料,其表面可吸附导电物质,成为导电“凹凸棒石”。利用这种材料,通过无机-有机杂化技术得到UV涂料,比较接近于本征型抗静电涂料。
发明内容
本发明的目的是提供一种配制简单,成本低,使用方便,效果好的抗静电耐磨UV涂料,以及该材料的制备方法。
本发明的抗静电耐磨UV涂料的质量百分比组成为:
多官能聚氨酯丙烯酸酯 5%-35%;优选为35%;
环氧丙烯酸酯 15%-45%;优选为20%;
活性稀释剂 10%-40%;优选为35%;
光引发剂 2%-12%;优选为4.9%;
其它助剂 0.5%-3%;优选为0.05%;
纳米导电凹凸棒粉 5%-25%;优选为5%;
硅烷偶联剂 0.05-0.5%,优选为0.05%。
上述的抗静电耐磨UV涂料的制备方法:将硅烷偶联剂、活性稀释剂一起加入干净器皿中,高速(1200转/分钟,30分钟)分散均匀,慢慢加入纳米导电凹凸棒粉,高速(1200转/分钟)分散直到混合液体温度上升到50℃,缓慢加入多官能聚氨酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、光引发剂,其它助剂搅拌均匀。
所述的活性稀释剂是TMPTA(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)、PETA(季戊四醇三丙烯酸酯)、TPGDA(二缩三丙二醇二丙烯酸酯)、DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)、HDDA(己二醇二丙烯酸酯)、NPGDA(新戊二醇二丙烯酸酯)、EO-TMPTA(乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)、IBOMA(甲基丙烯酸异冰片酯)、IBOA(异冰片丙烯酸酯)、DPGDA(二丙二醇二丙烯酸酯)、NPGDA(新戊二醇二丙烯酸酯)、PO-NPGDA(丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯)中的一种或一种以上。
所述的光引发剂是2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化磷、1-羟基-环己基-苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、二苯甲酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、安息香双甲醚、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、二甲氨基苯甲酸乙酯中的一种或一种以上。
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