[发明专利]红外窗口片的双面加工工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种半导体行业及红外光学仪器用红外窗口片，尤其是一种红外窗口片的双面加工工艺。

背景技术

锗、硅、硒化锌是透红外光的几种特殊材料，其主要用在半导体行业及各种红外光学仪器上，例如：各种红外测温仪，各种红外热成像仪，夜视仪及大功率二氧化碳激光器上。广泛应用于高端科技、国防、航空等领域，具有极重要的作用。

如果客户需要双平片镜片，按照以往的抛光工艺，我们是要分两次抛光，即正面抛好后再抛反面。按照这样的方法进行生产，不但效率低，而且在抛另一面的时候很容易损伤已抛好的那一面，而且平片的平行度根本就无法得到保证。有经验的工人可能平行度控制的好一点，经验少的工人这方面就欠缺的多了，所以另外寻找一种新的抛光方法已经刻不容缓。

发明内容

为了克服以上缺陷，本发明要解决的技术问题是：提出一种高效研磨抛光又能保证产品平行度的红外窗口片的双面加工工艺。

本发明所采用的技术方案为：一种红外窗口片的双面加工工艺，采用双面研磨机进行研磨，采用双面抛光机抛光，先进行研磨后进行抛光，该工艺步骤如下：

精磨，把红外窗口片放于游轮中，然后在铸铁平模上进行初级研磨，达到质量要求后再进行精磨，精磨时采用特制盘，用精细磨料进行研磨，在研磨过程中不断地更换位置，使红外窗口片在研磨中调整自身的精度；

粗抛，把精磨好的红外窗口片用氧化铅在抛光盘上进行粗磨，使得红外窗口片表面达到要求精度；

精抛，把粗抛合格的红外窗口片用柏油、松香合成材料制成的抛光盘进行精抛，通过精确修正，然后用抛光粉对红外窗口片表面进行抛光。

根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括所述粗抛后红外窗口片质量指标为：光洁度60/40，光圈面形误差为4个圈，平行度≤10″。

根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括所述精抛后红外窗口片纸浆指标为：光洁度40/20，光圈面形误差为0.5～1个圈，平行度≤5″。

根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括在精抛过程中，红外窗口片表面温度控制在20～35℃，红外窗口片转动速度为10～20r/min，红外窗口片的表面压力为0.3～0.5Mpa。

根据本发明的另外一个实施例，红外窗口片的双面加工工艺进一步包括采用行星式研磨抛光机进行双面研磨抛光后，再放到单面抛光机进行单面精抛光。

本发明的有益效果是：通过本发明能够明显提高红外窗口片的平行度，节省了工序，降低了操作难度和劳动强度，提高了产量和效率，克服了认为操作因素，便于工艺的调整和工艺的稳定性。

具体实施方式

现在结合附图和优选实施例对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。

一种红外窗口片的双面加工工艺，采用双面研磨机进行研磨，采用抛光机抛光，先进行研磨后进行抛光，该工艺步骤如下：

精磨，把红外窗口片放于游轮中，然后在铸铁手模上进行初级研磨，达到质量要求后再进行精磨，精磨时采用手盘，用精细磨料进行研磨，在研磨过程中不断地更换位置，使红外窗口片在研磨中调整自身的精度；

粗抛，把精磨好的红外窗口片用氧化铅在抛光盘上进行粗磨，使得红外窗口片表面达到要求精度，所述粗抛后红外窗口片质量指标为：光洁度60/40，光圈面形误差为4个圈，平行度≤10″。

精抛，把粗抛合格的红外窗口片用柏油、松香合成材料制成的抛光盘进行精抛，通过精确修正，然后用抛光粉对红外窗口片表面进行抛光。在精抛过程中，红外窗口片表面温度控制在20～35℃，红外窗口片转动速度为10～20r/min，红外窗口片的表面压力为0.3～0.5Mpa，而精抛后红外窗口片质量指标为：光洁度40/20，光圈面形误差为0.5～1个圈，平行度≤5″。

本发明优选采用行星式研磨抛光机进行双面研磨抛光后，再放到单面抛光机进行单面精抛光。

以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。