[发明专利]基于非均匀空间立体阵列分布式SAR的杂波抑制方法

权利要求书

1.基于非均匀空间立体阵列分布式SAR的杂波抑制方法，其特征在于它的具体过程如 下：

步骤一、根据非均匀分布式SAR的实际空间分布，建立一个基于X-Y-Z坐标系的非均 匀空间立体阵列流形；

步骤二、利用基于俯仰维划分的二次阵列插值信号重构方法，对步骤一建立的非均匀 空间立体阵列流形进行信号重构，获得均匀空间立体阵列流形；

步骤三、根据步骤二获得的均匀空间立体阵列流形，计算并获得杂波的各维多普勒频 率，进而获得所述均匀空间立体阵列流形的杂波模型；

步骤四、根据所述均匀空间立体阵列流形的杂波模型、各维多普勒频率及全空时自适 应处理方法，构建全空时自适应滤波器，进而对SAR实际接收的空时采样信号进行杂波抑 制。

2.根据权利要求1所述的基于非均匀空间立体阵列分布式SAR的杂波抑制方法，其特 征在于步骤二所述内容的具体过程为：

步骤二一、对步骤一中所述非均匀空间立体阵列流形中的所有阵元，按照就近原则， 将所述所有阵元划分到L个平行于X-Y坐标面的平面中，获得L个平行于X-Y坐标面的不 均匀平面子阵列；其中，L为正整数，且L由所述非均匀空间立体阵列流形中的所有阵元 在Z向分布的疏密程度决定；

步骤二二、分别对步骤二一获得的L个不均匀平面子阵列中的每一个平面子阵列进行 插值，获得L个平行于X-Y坐标面的均匀平面子阵列；

步骤二三、根据由所述L个均匀平面子阵列构成的空间立体阵列流形，获得M个平行 于X-Z坐标面的不均匀平面子阵列，然后对该M个不均匀平面子阵列的每一个不均匀平面 子阵列再次进行插值，分别获得M个平行于X-Z坐标面的均匀平面子阵列；

步骤二四、根据步骤二三获得的M个均匀平面子阵列，获得均匀空间立体阵列流形。

3.根据权利要求2所述的基于非均匀空间立体阵列分布式SAR的杂波抑制方法，其特 征在于步骤三所述内容的具体过程为：

步骤三一、令步骤二四获得的均匀空间立体阵列流形的平行于X-Z坐标面的一个平面 子阵列作为基准面子阵，然后根据步骤二获得的均匀空间立体阵列流形计算获得杂波的各 维多普勒频率；

步骤三二、根据该基准面子阵的杂波模型以及步骤三一获得的杂波的各维多普勒频率， 获得该均匀空间立体阵列流形的其余所有平面子阵列的杂波模型；其中，所述其余所有平 面子阵列均与X-Z坐标面平行；

步骤三三、由所述基准面子阵的杂波模型以及步骤三二获得的其余所有平面子阵列的 杂波模型，获得整个均匀空间立体阵列流形的杂波模型。