[发明专利]产生光刻胶图案的方法

权利要求书

1.一种产生光刻胶图案的方法，包括下列步骤(1)至(11)：

(1)在衬底上施加第一光刻胶组合物然后进行干燥从而形成第一光刻胶膜的步骤，所述第一光刻胶组合物包含：

(a)树脂，含有在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且其自身在碱性水溶液中不可溶或可溶性差，但是通过酸的作用变为在碱性水溶液中可溶；

(b)产酸剂；和

(c)式(X)表示的交联剂：

其中R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地表示以C1-C6烷氧基取代的C1-C6烷基，R¹⁵和R¹⁶各自独立地表示可具有一个或更多个取代基的C6-C10芳香烃基或C1-C6烷基；

(2)预烘所述第一光刻胶膜的步骤，

(3)使预烘过的所述第一光刻胶膜曝露于辐射的步骤，

(4)烘焙曝露过的所述第一光刻胶膜的步骤，

(5)用第一碱性显影剂使烘焙过的所述第一光刻胶膜显影从而形成第一光刻胶图案的步骤，

(6)使形成的所述第一光刻胶图案对下述步骤(9)中的辐射无活性、使形成的所述第一光刻胶图案不溶于碱性显影剂或者使形成的所述第一光刻胶图案不溶于在下述步骤(7)中使用的第二光刻胶组合物的步骤，

(7)在其上已经形成有所述第一光刻胶图案的所述衬底上施加第二光刻胶组合物、然后进行干燥从而形成第二光刻胶膜的步骤，

(8)预烘所述第二光刻胶膜的步骤，

(9)使预烘过的所述第二光刻胶膜曝露于辐射的步骤，

(10)烘焙曝露过的所述第二光刻胶膜的步骤，和

(11)用第二碱性显影剂使烘焙过的所述第二光刻胶膜显影从而形成第二光刻胶图案的步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述步骤(6)是烘焙形成的所述第一光刻胶图案的步骤。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述式(X)中的R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴各自独立地表示甲氧基甲基或异丙氧基甲基。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述式(X)中的R¹⁵和R¹⁶各自独立地表示甲基、丙基或苯基。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一光刻胶组合物中式(X)所表示的交联剂的量为0.5～30重量份每100重量份所述树脂。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述树脂还包含衍生自含羟基的丙烯酸金刚烷酯或含羟基的甲基丙烯酸金刚烷酯的结构单元。

7.根据权利要求6所述的方法，其中衍生自含羟基的丙烯酸金刚烷酯或含羟基的甲基丙烯酸金刚烷酯的所述结构单元的含量为5～50摩尔％，基于所述树脂的所有结构单元为100摩尔％。

8.根据权利要求1所述的方法，其中在其侧链中具有酸不稳定基团的所述结构单元衍生自丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，其中与酯部分中的氧原子相邻的碳原子是季碳原子并且所述丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯具有5～30个碳原子。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述树脂的含量为70～99.9重量％，基于所述第一光刻胶组合物中固体组分的量。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述产酸剂为式(I)所示的盐：

其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X¹表示单键或-(CH₂)_k-，其中一个或更多个亚甲基可被-O-或-CO-替代，并且一个或更多个氢原子可被直链或支链C1-C4脂肪烃基替代，并且k表示1～17的整数，Y¹表示可具有一个或更多个取代基的C3-C36环烃基，并且所述环烃基中的一个或更多个亚甲基可被-O-或-CO-替代，并且A⁺表示有机反离子。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述产酸剂的含量为0.1～30重量％，基于所述第一光刻胶组合物中固体组分的量。