[发明专利]单层型电子照相感光体和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201010135187.8 申请日: 2010-03-11
公开(公告)号: CN101852996A 公开(公告)日: 2010-10-06
发明(设计)人: 岩下裕子;滨崎一也;渡边征正;丸尾敬司 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G5/05 分类号: G03G5/05;G03G15/00
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 王琦;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单层 电子 照相 感光 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种单层型电子照相感光体,具有基体和配置在所述基体上的单层型的感光层,该感光层在同一层内含有电荷发生剂、电荷输送剂和第一粘结树脂,所述单层型电子照相感光体用于具备具有清洁辊的清洁部件的图像形成装置中,其特征在于,

所述第一粘结树脂为粘均分子量在10,000~40,000范围内的聚碳酸酯树脂,

所述感光层的膜厚在20~45μm的范围内,

按照JIS C 2110测定得到的耐电压的绝对值为6kV以上。

2.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,

所述第一粘结树脂含有选自下述通式(1)~(2)的至少一个通式所示的聚碳酸酯树脂:

通式(1)中,多个取代基Ra和Rb分别独立地为氢原子、卤原子、碳原子数1~4的取代或非取代的烷基、或者碳原子数6~30的取代或非取代的芳基,下标p和q分别独立地为0~4的整数,取代基Rc和Rd分别独立地为氢原子或者碳原子数1~3的取代或非取代的烷基,W为单键、-O-、-CO-、-CH2-,下标k和l满足0≤l/(k+l)<0.6的摩尔比关系式;

通式(2)中,多个取代基Re和Rf分别独立地为氢原子、卤原子、碳原子数1~4的取代或非取代的烷基、或者碳原子数6~30的取代或非取代的芳基,下标r和s分别独立地为0~4的整数,W为单键、-O-、-CO-、-CH2-,

下标m和n满足0≤n/(n+m)<0.6的摩尔比关系式。

3.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所述电荷发生剂为具有下述特性(A)和(B)的氧钛酞菁结晶,

(A)在CuKα特征X射线衍射谱中,在布拉格角2θ±0.2°=27.2°具有主峰,

(B)在差示扫描量热分析谱中,除了随着吸附水的气化产生的峰之外,在270~400℃的范围内具有一个峰。

4.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,

进一步具有配置在所述基体与所述感光层之间的中间层,

所述中间层含有第二粘结树脂和氧化钛微粒,且相对于100质量份的所述第二粘结树脂,所述氧化钛微粒的含量在50~500质量份的范围内,所述中间层的膜厚在0.1~10μm的范围内。

5.一种图像形成装置,其特征在于,具备:

权利要求1~4的任意一项所述的单层型电子照相感光体;

带电部件,所述带电部件使所述单层型电子照相感光体带电;

曝光部件,所述曝光部件对利用所述带电部件带电的所述单层型电子照相感光体进行曝光,从而在所述单层型电子照相感光体上形成静电潜像;

显影部件,所述显影部件用显影剂对利用所述曝光部件形成在所述单层型电子照相感光体上的所述静电潜像进行显影,从而在所述单层型电子照相感光体上形成显影剂图像;

转印部件,所述转印部件将利用所述显影部件形成在所述单层型电子照相感光体上的所述显影剂图像转印到规定的记录介质;和

清洁部件,所述清洁部件具有利用所述转印部件将所述显影剂图像转印到所述记录介质之后,对所述单层型电子照相感光体进行清洁的清洁辊。

6.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,所述带电部件具有正的带电极性。

7.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,所述单层型电子照相感光体具有120mm/s以上的圆周速度。

8.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,

所述带电部件为电晕充电器,

对所述电晕充电器施加的电压在5~10kV的范围内。

9.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,

所述转印部件具有辊形状。

10.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,

使所述单层型电子照相感光体带电至700V,利用具有780nm的波长和0.5μJ/cm2的强度的光进行曝光时,经过0.34秒后的表面电位为160V以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷美达株式会社,未经京瓷美达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010135187.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top