[发明专利]曝光装置及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并 透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：

功能液供应装置，用以对与该液体接触的既定构件供应具有既定功能 且与使该基板曝光时形成的液浸区域的液体不同的功能液；以及

嘴构件，具有用来形成该液浸区域的供应该液体的供应口及回收从该 供应口供应的液体的回收口中至少一者、与可配置该投影光学系统中最靠 近像面的光学元件的孔部。

2.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并 透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：

功能液供应装置，用以对与该液体接触的既定构件供应具有既定功能 且与使该基板曝光时形成的液浸区域的液体不同的功能液；以及

环状的嘴构件，具有用来形成该液浸区域的供应该液体的供应口及回 收从该供应口供应的液体的回收口中至少一者，配置成包围该投影光学系 统中最靠近像面的光学元件。

3.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并 透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：

功能液供应装置，用以对与该液体接触的既定构件供应具有既定功能 且与使该基板曝光时形成的液浸区域的液体不同的功能液；以及

嘴构件，具有用来形成该液浸区域的回收从供应口供应的该液体的回 收口，透过多孔体回收该液体。

4.一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并 透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：

功能液供应装置，用以对与该液体接触的既定构件供应具有既定功能 且与使该基板曝光时形成的液浸区域的液体不同的功能液；以及

嘴构件，具有在该基板曝光时用来在与该基板对向的下面形成该液浸 区域的供应该液体的供应口及形成为包围该供应口的回收口。

5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液包含具有杀菌作用的液体。

6.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液包含过氧化氢水或臭氧。

7.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液包含臭氧。

8.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液具有异物除去功能。

9.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液包含氢水。

10.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液包含具有控制电气传导度功能的液体。

11.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的功能液包含碳酸气水。

12.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中该功能液从该供应口供应。

13.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其进一步具备：液体供应机构，在曝光该基板时为了于该投影光学系统的 像面侧形成该液浸区域而供应该液体；

该功能液透过该液体供应机构的至少一部分供应。

14.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其进一步具备：液体回收机构，在曝光该基板时回收形成于该投影光学系 统的像面侧的该液浸区域的液体；

该功能液透过该液体回收机构的至少一部分而回收。

15.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的既定构件包含该嘴构件。

16.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的曝光装置，其特征在于 其中所述的既定构件包含与该嘴构件连接的流路形成构件。