[发明专利]制造和加工过程中确定板位置的方法和装置无效

专利信息
申请号: 200980151569.5 申请日: 2009-12-14
公开(公告)号: CN102246000A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: X·陈;A·刘;周乃越 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: G01B11/03 分类号: G01B11/03
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱慰民
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 制造 加工 过程 确定 位置 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种确定材料板选定区域相对于基准平面的位置的方法,包括:

在材料板的选定区域投射第一入射光束,以使所述第一入射光束在第一位置并以第一角度碰撞选定区域,由此产生第一反射光束;

在材料板的选定区域投射第二入射光束,以使第二入射光束在第二位置并以第二角度碰撞选定区域,由此产生第二反射光束,所述第二位置和第二角度分别不同于第一位置和第一角度;

在基准平面拦截第一反射光束和第二反射光束;

接收与拦截反射光束的位置和投射入射光束的角度相关的信息;以及

将所述信息与所述选定区域相对于基准平面的位置相关联。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括使用所述信息来控制无弯曲板分离工艺。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述信息关联的步骤包括从所述信息确定选定区域和基准平面之间的距离以及选定区域相对于基准平面的方位。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述信息关联的步骤包括对Pn=b(2θn+2θ0)求解,其中Pn是在基准平面上拦截反射光束的位置,θn是入射光束碰撞所述选定区域的角度,b是从选定区域至基准平面的距离,而θ0是选定区域相对于基准平面的方位。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,θn和θ0中的每一个的绝对值小于约12°。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一入射光束和所述第二入射光束是具有至少10的纵横比的狭长光束,并且投射所述第一入射光束和第二入射光束包括分别使所述第一入射光束的长轴和所述第二入射光束的长轴沿基本平行于材料板平移方向的方向对准。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括产生光束并将所述光束分束成第一入射光束和第二入射光束。

8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括产生光束并在扫描光学反射镜处定向所述光束以产生第一入射光束和第二入射光束。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述扫描光学反射镜与所述选定区域呈相对关系定位,并沿所述材料板的平移方向转动。

10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括用第一光源产生第一入射光束以及用第二光源产生第二入射光束。

11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,拦截所述第一反射光束和所述第二反射光束包括用线性阵列检测器来拦截所述第一反射光束。

12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,拦截所述第一反射光束和所述第二反射光束包括有选择地平移光接收器以拦截所述第一反射光束和所述第二反射光束。

13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,拦截所述第一反射光束和所述第二反射光束包括在投射第二入射光束前拦截所述第一反射光束。

14.一种确定材料板选定区域相对于基准平面的位置的装置,包括:

光源,用于分别以第一角度和第二角度在材料板的选定区域投射第一入射光束和第二入射光束,所述第一角度不同于第二角度;

光接收器,用来拦截来自材料板的选定区域的第一反射光束和第二反射光束,所述第一反射光束和第二反射光束沿不同光路行进;

数据采集器,用来采集关于拦截反射光束的位置和投射入射光束的角度的信息;以及

数据分析器,用来从采集的数据确定所述选定区域相对于基准平面的位置。

15.如权利要求14所述的装置,其特征在于,所述光源包括工作在从400nm至1700nm范围内的波长下的光发生器。

16.如权利要求15所述的装置,其特征在于,所述光源还包括定位成接收来自所述光发生器的光束的扫描光学反射镜。

17.如权利要求15所述的装置,其特征在于,所述光源还包括光束整形器,用来将来自所述光发生器的光束整形为狭长的光束。

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