[发明专利]用于制造有机光电子结构元件的方法以及有机光电子结构元件有效

专利信息
申请号: 200980151500.2 申请日: 2009-12-10
公开(公告)号: CN102256909A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 安杰拉·埃贝哈特;蒂尔曼·施伦克尔;马克·菲利彭斯;乌尔丽克·比尔;约阿基姆·维特-舍恩;弗洛里安·佩什科勒;埃瓦尔德·珀斯尔;卡斯藤·霍伊泽尔;阿尔弗雷德·兰格;马丁·穆勒 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: C03C27/00 分类号: C03C27/00;C03C27/10;H01L51/52
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 武树辰;张春水
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 有机 光电子 结构 元件 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种用于制造有机光电子结构元件的方法,包括步骤:

A)提供第一衬底(1),其具有有源区域(12)和包围所述有源区域(12)的第一连接区域(11),其中在所述有源区域(12)内构成有机功能层序列(3);

B)提供第二衬底(2),其具有覆盖区域(22)和包围所述覆盖区域(22)的第二连接区域(21);

C)将由第一玻璃焊料组成的第一连接层(4)直接施加在所述第二衬底(2)上且施加在所述第二连接区域(21)内;

D)使所述第一连接层(4)的所述第一玻璃焊料玻化(91);

E)将第二连接层(5)施加在所述玻化的第一连接层(4)或所述第一衬底(1)的所述第一连接区域(11)上;以及

F)将所述第一衬底(1)与所述第二衬底(2)连接,使得所述第二连接层(5)将所述第一连接区域(11)与所述第一连接层(4)连接。

2.如权利要求1所述的方法,其中

-在所述方法步骤C和D中,所述第一连接层(4)构成为具有第一厚度;并且

-在所述方法步骤F后,所述第二连接层(5)具有第二厚度,所述第二厚度小于或等于所述第一厚度的五分之一。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中

-所述第二连接层(5)具有有机的可硬化的粘合剂;并且

-所述粘合剂在所述方法步骤F后硬化。

4.如权利要求1或2所述的方法,其中

-所述第二连接层(5)具有第二玻璃焊料;并且

-所述第二玻璃焊料在所述方法步骤F后玻化。

5.如权利要求3或4所述的方法,其中

-所述第二连接层(5)具有能吸收电磁辐射的材料;并且

-所述第一连接层(4)不具有吸收材料。

6.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中在所述方法步骤D期间或之后,所述第一连接层(4)的背离所述第二衬底(2)的表面平坦化。

7.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中

-在所述方法步骤A中,所述第一衬底(1)在所述第一连接区域(11)内提供有包围所述有源区域(12)的凹部(10);并且

-在所述方法步骤F后,所述第二连接层(5)至少部分地设置在所述凹部(10)内。

8.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中在所述方法步骤F前,在所述第二衬底(2)的所述覆盖区域(22)内设置有粘合剂和/或吸气材料。

9.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中在所述方法步骤A中,所述有机功能层序列(3)构成为具有至少一个覆盖的势垒层(33)。

10.一种用于制造有机光电子结构元件的方法,包括步骤:

A)提供第一衬底(1),其具有有源区域(12)和包围所述有源区域(12)的第一连接区域(11);

B)提供第二衬底(2),其具有覆盖区域(22)和包围所述覆盖区域(22)的第二连接区域(21);

C)将由第一玻璃焊料组成的第一连接层(4)直接施加在所述第一衬底(1)上且施加在所述第一连接区域(11)内;

D)使在所述第一衬底(1)上的所述第一连接层(4)的所述第一玻璃焊料玻化;

D’)在所述第一衬底(1)的所述有源区域(12)内构成有机功能层序列(3);

E)将所述第二连接层(5)施加在所述玻化的第一连接层(4)或所述第二衬底(2)的所述第二连接区域(21)上;以及

F)将所述第一衬底(1)与所述第二衬底(2)连接,使得所述第二连接层(5)将所述第二连接区域(21)与所述第一连接层(4)连接。

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