[发明专利]搅拌消泡装置和搅拌消泡方法

说明书

技术领域

本发明涉及可以对收容在容器中的被处理物进行搅拌消泡的搅拌消泡装置以及搅拌消泡方法。

背景技术

目前，众所周知的是，作为这种搅拌消泡装置，其具有：工作台，可围绕公转轴线旋转，且设置有自转轴线；以及容器，可收容被处理物，设置在上述工作台上，可围绕自转轴线旋转的同时，通过工作台围绕公转轴线旋转而进行公转，其中，自转轴线倾斜规定的角度，以与公转轴线交叉(参考以下专利文献1)。

上述搅拌消泡装置通过使容器围绕公转轴线进行公转，可以使容器内的被处理物消泡，而且，作为搅拌消泡的方法，也可以是使容器围绕公转轴线公转的同时围绕与该公转轴线交叉地倾斜的自转轴线自转，从而可以对容器内的被处理物进行搅拌消泡，可以在短时间内对各种被处理物进行搅拌消泡。

专利文献1：日本专利第2711964号公报

但是，作为上述现有技术的搅拌消泡装置以及搅拌消泡方法，由于自转轴线以与公转轴线交叉的方式倾斜规定的角度，因此，由作用于收容在容器中的被处理物的公转产生的离心力主要作用在由自转轴线和公转轴线形成的面上。因此，即便使收容了被处理物的容器公转的同时进行自转，但是，在容器内的规定部位(例如容器底部的自转轴线附近部位)被处理物仍未被搅动而残留下来，其结果是，存在搅拌不充分的情况，有待于进一步改进。

因此，本发明鉴于上述改进点，其目的在于提供可以可靠地对收容在容器中的被处理物进行搅拌消泡的搅拌消泡装置以及搅拌消泡方法。

发明内容

鉴于上述课题而形成本发明，本发明的搅拌消泡装置包括：工作台，能围绕公转轴线旋转，设置有自转轴线；以及容器，能收容被处理物，通过设置于所述工作台，能围绕所述自转轴线自转，而且，还基于所述工作台围绕所述公转轴线的旋转而且进行公转，其中，所述自转轴线相对于所述公转轴线位于扭转的位置上。

作为该结构的搅拌消泡装置，由于将收容有被处理物的容器设置于工作台，并使其围绕公转轴线进行公转，从而可以使容器内的被处理物消泡，而且，通过使该容器公转的同时围绕自转轴线自转，从而可以对容器内的被处理物进行搅拌消泡。

因此，由于自转轴线相对于公转轴线位于扭转的位置，所以，作用于收容在容器内的被处理物的、基于公转产生的离心力主要作用于与通过自转轴线且平行于公转轴线的基准面交叉的方向。因此，当使收容有被处理物的容器公转同时还自转时，收容在容器内的被处理物则被作用于与上述基准面交叉的方向的由公转产生的离心力和由自转产生的离心力整体搅动。因此，可以可靠地对收容在容器内的被处理物进行搅拌消泡。

而且，所谓的自转轴线相对于公转轴线位于扭转的位置是指自转轴线与公转轴线不平行且不相交的位置关系。即、是指自转轴线与公转轴线不在同一个平面的位置关系。

尤其是，优选方式是，上述容器以封闭其中心轴线方向的至少一端部，使上述中心轴线与上述自转轴线一致，并使中心轴线方向的另一端部比上述一端部更靠近上述公转轴线的方式被设置于上述工作台上。

而且，本发明涉及一种搅拌消泡方法，使收容有被处理物的容器围绕公转轴线公转的同时，还围绕相对于上述公转轴线位于扭转的位置上的自转轴线自转，从而对被处理物进行搅拌消泡处理。

如上所述，作为本发明的搅拌消泡装置以及搅拌消泡方法，由于自转轴线相对于公转轴线位于扭转的位置，因此，如果使收容有被处理物的容器公转的同时自转，则收容在容器内的被处理物通过作用于与上述基准面交叉的方向的由公转产生的离心力以及由自转产生的离心力被整体搅拌，其结果是，可以达到可靠地对被处理物进行搅拌消泡的效果。

附图说明

图1是表示本发明的搅拌消泡装置的一个实施方式的示意平面图。

图2是表示该搅拌消泡装置的示意主视图。

图3是表示搅拌消泡工序的状态的示意图，(A)是现有技术的搅拌消泡装置的搅拌消泡状态的示意主视图，(B)是(A)的P-P线截面图，(C)是本发明涉及的搅拌消泡装置的搅拌消泡工序状态的示意主视图，(D)是(C)的Q-Q线截面图。

图4是表示本发明涉及的搅拌消泡装置的另一实施方式的概略平面图。以及

图5是图4的示意主视图。

具体实施方式

以下，参考附图就本发明的搅拌消泡装置以及搅拌消泡方法的一个实施方式进行具体说明。

图1和图2表示本实施方式的搅拌消泡装置1。该搅拌消泡装置1是可以搅拌由多种材料组成的被处理物的装置。而且，被处理物例如是医药用原料或电子元器件材料、液晶用材料等忌气泡的被搅拌材料。