[发明专利]电子照相设备和处理盒有效
| 申请号： | 200980142666.8 | 申请日： | 2009-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102197341A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 齐藤善久;雨宫昇司;小川英纪;池末龙哉;田边干;大城真弓;滝泽久美子;满居隆浩 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/147 | 分类号： | G03G5/147;G03G5/047;G03G9/08 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电子 照相 设备 处理 | ||
1.一种电子照相设备，其包括：
电子照相感光构件，所述电子照相感光构件包括支承体和形成于所述支承体上的感光层；
显影单元，构建所述显影单元以用调色剂显影形成于所述电子照相感光构件表面上的静电潜像，所述调色剂包含具有数均粒径(P[μm])为0.1μm以上至1.5μm以下的无机细颗粒作为外部添加剂；和
清洁单元，构建所述清洁单元以用清洁刮板除去残留于所述电子照相感光构件表面上的未转印调色剂，
其中，
彼此独立的凹陷部以每1cm2单位面积所述凹陷部为10个以上的密度形成于所述电子照相感光构件表面中，和
各所述凹陷部满足以下条件；
条件
所述凹陷部各自满足以下关系，其中将各所述凹陷部的深度定义为Rdv[μm]，各所述凹陷部的短轴径定义为Lpc[μm]，各所述凹陷部的长轴径定义为Rpc[μm]，以及在各所述凹陷部的长轴方向和所述电子照相感光构件表面的移动方向之间形成的角度定义为θ[°]：
5[°]≤θ[°]≤85[°]，
0.3×P[μm]≤Rdv[μm]≤0.5×P[μm]，
1.1×P[μm]≤Lpc[μm]≤1.5×P[μm]，和
50/Sinθ[μm]≤Rpc[μm]≤1500[μm]。
2.根据权利要求1所述的电子照相设备，其中所述凹陷部以每1cm2单位面积所述凹陷部为20个以上的密度形成于所述电子照相感光构件表面中。
3.一种处理盒，其可拆卸地安装于电子照相设备的主体，所述处理盒包括：
电子照相感光构件，所述电子照相感光构件包括支承体和形成于所述支承体上的感光层；
显影单元，构建所述显影单元以用调色剂显影形成于所述电子照相感光构件表面上的静电潜像，所述调色剂包含具有数均粒径(P[μm])为0.1μm以上至1.5μm以下的无机细颗粒作为外部添加剂；和
清洁单元，构建所述清洁单元以用清洁刮板除去残留于所述电子照相感光构件表面上的未转印调色剂，
其中，
彼此独立的凹陷部以每1cm2单位面积所述凹陷部为10个以上的密度形成于所述电子照相感光构件表面中，和
各所述凹陷部满足以下条件；
条件
所述凹陷部各自满足以下关系，其中将各所述凹陷部的深度定义为Rdv[μm]，各所述凹陷部的短轴径定义为Lpc[μm]，各所述凹陷部的长轴径定义为Rpc[μm]，以及在各所述凹陷部的长轴方向和所述电子照相感光构件表面的移动方向之间形成的角度定义为θ[°]：
5[°]≤θ[°]≤85[°]，
0.3×P[μm]≤Rdv[μm]≤0.5×P[μm]，
1.1×P[μm]≤Lpc[μm]≤1.5×P[μm]，和
50/Sinθ[μm]≤Rpc[μm]≤1500[μm]。
4.根据权利要求3所述的处理盒，其中所述凹陷部以每1cm2单位面积所述凹陷部为20个以上的密度形成于所述电子照相感光构件表面中。
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