[发明专利]针对快速成型设备的改进

权利要求书

1.一种用于从光敏材料产生三维物体的设备，所述设备包括：

带有光照源的曝光系统（ES），

扫描杆，该曝光系统（ES）被安装到所述扫描杆，

控制单元（CU），

由此所述曝光系统（ES）包括:

带有多个单独可控光调制器（LM）的至少一个空间光调制器（SLM），

被光耦合到所述至少一个空间光调制器（SLM）的输入光学器件（IO），

被光耦合到所述至少一个空间光调制器（SLM）的输出光学器件（OO），

其中所述输入光学器件（IO）和输出光学器件（OO）促进从所述光照源发射的光经由所述空间光调制器（SLM）的所述单独可控光调制器（LM）到光照区域（IA）的传输，

其中所述空间光调制器（SLM）使得能够根据源自所述控制单元（CU）的控制信号来确立通过所述输入光学器件（IO）传输的光的图案，

其中所述输出光学器件（OO）使得能够在光照区域（IA）上聚焦来自所述至少一个空间光调制器（SLM）的光的图案，

其中在输出光学器件（OO）和光照区域（IA）之间的距离d是在0.5和20mm之间。

2.一种用于从光敏材料产生三维物体的设备，所述设备包括：

带有光照源的曝光系统（ES），

扫描杆，该曝光系统（ES）被安装所述扫描杆，

控制单元（CU），

由此所述曝光系统（ES）包括：

带有多个单独可控光调制器（LM）的至少一个空间光调制器（SLM），

被光耦合到所述至少一个空间光调制器（SLM）的输入光学器件（IO），

被光耦合到所述至少一个空间光调制器（SLM）的输出光学器件（OO），

其中所述输入光学器件（IO）和输出光学器件（OO）促进从所述光照源发射的光作为至少两个光束经由所述空间光调制器（SLM）的所述单独可控光调制器（LM）到光照区域（IA）的传输，

其中所述空间光调制器（SLM）使得能够根据源自所述控制单元（CU）的控制信号来确立通过所述输入光学器件（IO）传输的光的图案，

其中所述输出光学器件（OO）使得能够在光照区域（IA）上聚焦来自所述至少一个空间光调制器（SLM）的光的图案，

其中在输出光学器件（OO）和光照区域（IA）之间的距离d是在0.5和20mm之间。

3.根据权利要求1或者2的设备，其中所述输出光学器件（OO）包括至少一个微透镜并且所述输出光学器件（OO）具有如此特性使得它能够以使得在输出光学器件（OO）和光照区域（IA）之间的聚焦距离d是在0.5和20mm之间的方式在光照区域（IA）上聚焦光的图案。

4.根据权利要求1-3的设备，其中所述曝光系统包括适于距所述输出光学器件以在1和10mm之间、优选地在1.5和5mm之间的距离d聚焦光的至少一个微透镜。

5.根据权利要求1-4的设备，其中所述曝光系统包括适于距所述输出光学器件以在0.5和20mm之间、优选地在1和10mm之间、最优选地在1.5和5mm之间的距离d聚焦光的至少两个微透镜。

6.根据权利要求1-5的设备，其中微透镜的总数目至少对应于光调制器的总数目乘以微透镜层的数目。

7.根据权利要求1-6的设备，其中所述曝光系统包括微透镜的阵列，其中微透镜的总数目大于200、优选地大于600、更加优选地大于2000、最优选地大于6000。

8.根据权利要求3-7的设备，其中所述至少一个微透镜具有在300μm和400μm之间的曲率半径。

9.根据权利要求3-8的设备，其中所述至少一个微透镜呈现在350μm和390μm之间、优选地在360μm和375μm之间的曲率半径。

10.根据权利要求3-9的设备，其中所述至少一个微透镜呈现在310μm和350μm之间、优选地在320μm和335μm之间的曲率半径。

11.根据权利要求1-10的设备，其中所述曝光系统包括具有在300μm和400μm之间的曲率半径的至少两个优选地至少三个微透镜。