[发明专利]用于T2*对比的流动不敏感磁化准备脉冲有效

专利信息
申请号: 200980140329.5 申请日: 2009-10-05
公开(公告)号: CN102177441A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: C·施特宁;J·E·拉米尔;S·雷梅尔;U·布卢默;T·R·舍夫特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01R33/50 分类号: G01R33/50
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 t2 对比 流动 敏感 磁化 准备 脉冲
【权利要求书】:

1.一种磁共振方法,包括:

使主要为短T2*核素的自旋失相(40),而基本不使长T2*核素的自旋失相;

在所述失相之后,执行磁共振采集(42)以主要从长T2*核素采集磁共振数据;以及

从所采集的磁共振数据产生T2*加权的图像。

2.根据权利要求1所述的磁共振方法,其中,所述磁共振采集(42)与所述失相(40)合作提供血氧水平依赖(BOLD)对比。

3.根据权利要求1所述的磁共振方法,其中,所述磁共振采集(42)采用短回波时间,以在没有所述失相(40)的情况下主要提供质子密度加权的成像。

4.根据权利要求1所述的磁共振方法,其中,所述磁共振采集(42)采用与所述长T2*核素的T2*相比短的短回波时间。

5.根据权利要求1所述的磁共振方法,其中,所述失相(40)包括:

(a)施加窄带宽脉冲(50),以将主要为长T2*核素的自旋倾斜到主磁场的方向之外;

(b)施加一个或多个宽带宽脉冲(52,54),以(i)将主要为长T2*核素的自旋倾斜回到所述主磁场的所述方向,并(ii)将主要为短T2*核素的自旋倾斜到所述主磁场的所述方向之外;以及

在施加(a)和施加(b)之后,使倾斜到所述主磁场的所述方向之外的自旋失相。

6.根据权利要求5所述的磁共振方法,其中,(i)所述一个或多个宽带宽脉冲(52,54)的带宽和(ii)所述窄带宽脉冲(52)的带宽之比至少为大约二。

7.根据权利要求5所述的磁共振方法,其中:

所述一个或多个宽带宽脉冲(52,54)的持续时间短于所述短T2*核素的T2*,并且

所述窄带宽脉冲(50)的持续时间大约为或长于所述短T2*核素的T2*。

8.根据权利要求5所述的磁共振方法,其中,施加一个或多个宽带宽脉冲(52,54)包括:

施加宽带宽自旋重聚焦脉冲(52),所述宽带宽自旋重聚焦脉冲使被所述窄带宽脉冲(50)倾斜到所述主磁场的所述方向之外的主要为长T2*核素的自旋重聚焦。

9.根据权利要求8所述的磁共振方法,其中,施加一个或多个宽带宽脉冲(52,54)还包括:

施加宽带宽恢复脉冲(54),所述宽带宽恢复脉冲使经重聚焦的主要为长T2*核素的自旋返回到所述主磁场的所述方向。

10.根据权利要求9所述的磁共振方法,其中,所述窄带宽脉冲(50)具有90°翻转角,所述宽带宽自旋重聚焦脉冲(52)具有180°翻转角,并且所述宽带宽恢复脉冲(54)具有90°翻转角。

11.根据权利要求9所述的磁共振方法,其中,所述脉冲(50,52,54)具有除90°-180°-90°之外的翻转角,但分别在大约60°-120°、150°-210°和60°-120°的范围中。

12.根据权利要求1所述的磁共振方法,其中,所述失相是空间非选择性的。

13.一种存储指令的存储介质,可以执行所述指令以执行根据权利要求1所述的磁共振方法。

14.一种磁共振系统(10,32),其被配置成执行根据权利要求1所述的磁共振方法。

15.一种磁共振系统,包括:

磁共振扫描机(10),其包括产生静态主磁场的主磁体(12),所述主磁场为了沿所述静态主磁场的方向对准而偏置核自旋;

磁场梯度线圈(14);

射频线圈(16);以及

控制器(20,22),其被配置成:

(a)驱动所述射频线圈(16)以选择性地将主要为短T2*的自旋倾斜到所述主磁场的所述方向之外,

(b)驱动所述磁场梯度线圈(14)和所述射频线圈(16)中的至少一个以使倾斜到所述主磁场的所述方向之外的主要为短T2*的所述自旋失相,以及

(c)驱动所述磁场梯度线圈(14)和所述射频线圈(16)以采集由于先前操作(a)和(b)而主要由T2*加权的磁共振数据。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980140329.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top