[发明专利]制造场发射装置中的空气焙烧阴极组合件的方法无效

专利信息
申请号: 200980131995.2 申请日: 2009-08-20
公开(公告)号: CN102124535A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: R·格蒂;P·林奇 申请(专利权)人: E.I.内穆尔杜邦公司
主分类号: H01J9/02 分类号: H01J9/02;H01J1/304;H01J31/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 樊云飞
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 制造 发射 装置 中的 空气 焙烧 阴极 组合 方法
【权利要求书】:

1.一种将电子发射材料沉积到基板上的方法,所述方法包括:

(a)提供基板,

(b)混合组分以形成组合物,所述组分包括(i)碳纳米管,(ii)氧化铝粉,和(iii)有机载体,

(c)将所述组合物的厚膜图案沉积到所述基板上,以及

(d)在空气或氧化气氛中以介于300℃和550℃之间的温度加热所述厚膜图案。

2.根据权利要求1的方法,其中所述基板是导电的。

3.根据权利要求1的方法,所述方法还包括在沉积所述组合物的厚膜图案之前将导电体图案沉积到所述基板上的步骤。

4.根据权利要求1的方法,其中所述基板是电绝缘的。

5.根据权利要求4的方法,所述方法还包括在沉积所述组合物的厚膜图案之前将导电体沉积到所述电绝缘基板上的步骤。

6.根据权利要求1的方法,其中所述氧化铝粉具有0.01至5微米的d50粒度。

7.根据权利要求1的方法,其中所述氧化铝粉具有0.05至0.5微米的d50粒度。

8.根据权利要求1的方法,其中所述组合物中的氧化铝粉浓度按所述总组合物的重量计为约5至约30重量%。

9.根据权利要求1的方法,其中所述组合物中的碳纳米管浓度按所述总组合物的重量计为约0.01至约2重量%。

10.根据权利要求1的方法,所述方法包括丝网印刷所述组合物以沉积所述组合物的图案。

11.根据权利要求1的方法,所述方法包括喷射所述组合物以沉积所述组合物的图案。

12.根据权利要求1的方法,所述方法包括使所述组合物光成像以形成其图案。

13.根据权利要求1的方法,其中所述组合物还包含胶态二氧化硅。

14.根据权利要求1的方法,所述方法还包括将所述基板结合到电子场发射器中的步骤。

15.根据权利要求14的方法,所述方法还包括活化所述电子场发射器的步骤。

16.根据权利要求14的方法,所述方法还包括将所述电子场发射器结合到场发射装置中的步骤。

17.根据权利要求16的方法,所述方法还包括将所述场发射装置结合到平板显示器中的步骤。

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