[发明专利]杂交载片处理系统及方法

权利要求书

1.一种用于在载片上提供反应腔的单元，包括：

具有反应区域和一对用于附接到处理装置的托架固定装置的暴露的平行边缘的载片基底；

能够去除地耦接到所述载片基底以形成包围所述反应区域的密封反应腔的腔组件；以及

用于耦接所述腔组件到所述处理装置的夹紧固定装置的附接器件，

其中从所述托架固定装置分离所述夹紧固定装置将从所述载片基底去除所述腔组件以打开所述密封的反应腔。

2.如权利要求1所述的单元，进一步包括：

所述腔组件包括：

具有顶面和底面的柔性基层，所述底面形成反应腔的顶棚；以及

从所述基层的所述底面延伸以形成所述反应腔的侧壁的弱粘合密封垫圈；以及

所述附接器件包括从所述基层的所述顶面延伸的用于附接到所述处理装置的所述夹紧固定装置的强粘合上部补片。

3.如权利要求1所述的单元，进一步包括：

所述腔组件包括具有柔性环形唇以形成包围所述反应区域的密封反应腔的圆顶壳；以及

所述附接器件包括从所属圆顶的顶面延伸的用于附接到所述处理装置的所述夹紧固定装置的强粘合上部补片。

4.如权利要求1所述的单元，其中所述附接器件包括一组延伸超过所述载片基底的另外一对平行边缘的用于耦接所述腔组件到处理装置的所述夹紧固定装置的腔组件边界。

5.如权利要求4所述的单元，其中所述对腔组件边界延伸超过平行于所述载片基底的短轴的所述基底边缘。

6.如权利要求4所述的单元，其中所述对腔组件边界延伸超过平行于所述载片基底的长轴的所述基底边缘。

7.一种用于多个微阵列载片的系统，包括：

盆罩；

布置在所述盆罩中在支撑轴上的载片托架转子，用于接收其中至少一个载片基底；

布置支撑轴上相邻于所述托架转子的夹紧转子，用于接收其中至少一个腔组件；

其中接合所述夹紧转子与所述托架转子将耦接所述腔组件到所述载片基底以形成至少一个密封的反应腔；以及

其中从所述托架转子拆开所述夹紧转子将从所述载片基底拆下所述腔组件以启封至少一个反应腔。

8.如权利要求7所述的系统，其中所述一次性腔组件包括：

具有顶面和底面的柔性基层，所述底面形成所述至少一个所述反应腔的顶棚；

从所述基层的所述底面延伸以形成所述至少一个反应腔的侧壁的弱粘附密封垫圈；以及

从所述基层的所述顶面延伸的用于附接到所述处理装置的所述夹紧固定装置的强粘合上部补片。

9.如权利要求7所述的系统，其中所述腔组件包括：

具有柔性环形唇以形成所述至少一个密封反应腔的圆顶壳；

具有顶面和底面的柔性基层；

从所述底面延伸以附接所述圆顶壳到所述基层的粘合下部补片；以及

从所述基层的所述顶面延伸以附接到所属处理装置的夹紧固定装置的粘合上部补片。

10.如权利要求7所述的系统，进一步包括至少一个耦接到所述至少一个一次性壳的所述暴露表面的歧管，其中所述歧管具有与所述一次性壳的填充端口和排放端口对齐的至少一个填充孔和至少一个排放孔。

11.如权利要求10所述的系统，进一步包括布置在所述支撑轴上相邻于所述夹紧转子并具有至少一个带向外突出的阀销的阀站的阀转子，其中接合所述阀转子与所述夹紧转子引起所述阀销能够去除地塞住所述至少一个歧管的所述至少一个填充孔和所述至少一个排放孔。

12.一种处理多个载片的方法，包括：

将多个载片插入处理装置，所述多个载片中的每一个都具有被低容量腔组件包围的反应区域以形成低容量反应腔；

用低容量流体填充所述反应腔以与所述反应区域反应；

从所述多个载片去除所述腔组件以暴露所述反应区域；

在公共冲洗流体浴中冲洗所述多个载片；

从所述公共冲洗流体浴中去除所述多个载片。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述处理装置进一步包括布置在配置为容纳所述公共冲洗流体浴的盆罩中的至少一个转子圆盘。