[发明专利]流体处理设备无效

专利信息
申请号: 200980124891.9 申请日: 2009-04-22
公开(公告)号: CN102083509A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: N·E·兰格;K·W·泽韦林 申请(专利权)人: VWS西苑有限公司
主分类号: B01D17/02 分类号: B01D17/02;B03D1/16;B03D1/26;E21B43/34
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 桑传标;周建秋
地址: 英国格*** 国省代码: 英国;GB
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摘要:
搜索关键词: 流体 处理 设备
【权利要求书】:

1.一种流体处理设备,包括:

流体容器;

限定在流体容器内的第一和第二流体室;

用来将待处理的流体传送到第一流体室的流体入口;以及

至少一个喷嘴组件,其提供第一流体室到第二流体室的流体连通,其特征在于,所述喷嘴组件适于促进气体与所述流体混合。

2.根据权利要求1所述的流体处理设备,其特征在于,所述至少一个喷嘴组件利于气体夹带入所述流体。

3.根据权利要求1或2所述的流体处理设备,其特征在于,第二流体室可适于容纳其内的流体的分离处理。

4.根据权利要求1、2或3所述的流体处理设备,进一步包括适于至少部分地分隔第一流体室和第二流体室的隔板。

5.根据权利要求4所述的流体处理设备,其特征在于,所述至少一个喷嘴组件适于延伸通过隔板。

6.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,其特征在于,所述至少一个喷嘴组件包括限定流体端口的第一流体管路,该流体端口适于允许待处理的流体从第一流体室连通到第一流体管路。

7.根据权利要求6所述的流体处理设备,其特征在于,所述流体端口设定在相对于第一流体室的底部区域的凸起位置。

8.根据权利要求6或7所述的流体处理设备,其特征在于,所述至少一个喷嘴组件包括第二流体管路,该第二流体管路适于允许来自气源的气体连通到喷嘴组件的一部分。

9.根据权利要求8所述的流体处理设备,其特征在于,所述气源包括容纳在容器内的气体。

10.根据权利要求8或9所述的流体处理设备,其特征在于,所述气源包括自待处理流体释放的气体。

11.根据权利要求8或9或10所述的流体处理设备,其特征在于,所述气源包括自容器的外部提供的气体。

12.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,其特征在于,所述至少一个喷嘴组件包括排泄管,该排泄管限定向第二流体室开口的流体出口开口。

13.根据权利要求12所述的流体处理设备,其特征在于,所述排泄管可配置成在第二室内建立旋转流动。

14.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,包括多个喷嘴组件。

15.根据权利要求14所述的流体处理设备,其特征在于,所述多个喷嘴组件的至少一个可适于在第一流体室内以不同于多个喷嘴组件的至少另一个的流体头部操作。

16.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,进一步包括第一和第二室之间的流体通道,以允许流体在两室之间连通。

17.根据权利要求16所述的流体处理设备,其特征在于,所述流体通道适于允许气体从第二流体室进入第一流体室的流体连通。

18.根据权利要求16或17所述的流体处理设备,其特征在于,所述流体通道延伸通过分隔第一和第二室的隔板。

19.根据权利要求18所述的流体处理设备,其特征在于,所述流体通道由自隔板的表面延伸的壁限定。

20.根据权利要求19所述的流体处理设备,其特征在于,所述壁限定第一室的壁部。

21.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,进一步包括分配器组件,该分配器组件适于接收经由流体入口进入第一室的流体。

22.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,进一步包括一个或多个流体出口,以允许处理后的流体或流体成分自容器排出。

23.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,其特征在于,所述第二流体室适于仅从第一流体室接收流体。

24.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,其特征在于,被处理流体在第一和第二流体室之间的连通可通过至少一个喷嘴组件专有地获得。

25.根据前述权利要求中任一项所述的流体处理设备,进一步包括置于第二室内的偏转器装置,以便助于最小化被处理流体的前向混合。

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