[发明专利]不规则表面的楔形压印图案形成

权利要求书

1.一种将图案赋予衬底的方法，所述方法包括以下步骤：

a.提供衬底和具有图案化的凸起的特征的可变形印模，其中所述印模具有小于10GPa的弹性系数；

b.在所述印模和所述衬底之间的空间的至少一个区域中提供一旦加热到流动温度时变为可流动的材料；

c.布置所述图案化的印模以接触由以下项构成的组中的至少一个：所述衬底和所述可流动的材料；

d.将所述印模和衬底加热到所述材料的所述流动温度之上；

e.冷却所述印模和衬底组件使得所述可流动的材料变为不可流动；

f.收回所述印模以显露覆盖所述衬底的区域的图案化的材料，所述图案包括未被可流动的材料覆盖的衬底的至少一个开区域；以及

g.使所述图案化的衬底经受至少一个随后的工艺步骤。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述变为可流动的材料包括蜡。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述变为可流动的材料包括聚合物。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述变为可流动的材料在所述流动温度处具有小于大约100,000厘泊的粘度。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述变为可流动的材料在所述流动温度处具有小于大约10,000厘泊的粘度。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述变为可流动的材料在所述流动温度处具有小于大约2,000厘泊的粘度。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可变形的印模的所述弹性系数为小于大约0.1GPa。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可变形的印模的所述弹性系数为小于大约10MPa。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述凸起的特征具有在大约2和大约20微米之间的高度。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可变形的印模包括硅化物。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可变形的印模包括至少两个部分，其中第一部分具有实质上大于第二部分的弹性系数的弹性系数。

12.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括所述衬底的至少一个区域中的材料的去湿润，所述衬底的至少一个区域先前已被用材料湿润，所述被去湿润的区域对应于所述印模的凸起的特征。

13.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括重复使用所述印模以将图案赋予另一个衬底的步骤。

14.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底包括多晶硅。

15.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底包括单晶硅。

16.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底具有在大约0.5和大约20微米之间的特性表面粗糙度，从顶端到谷底。

17.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底具有在大约0.05和大约1.0倍于所述图案化的凸起的特征的高度之间的特性表面粗糙度。

18.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述布置的方法包括在所述印模的相对所述图案化的凸起的特征的一侧上加压。

19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述加压的步骤包括施加在大约100和大约500kPa之间的压力，基于衬底面积进行计算。

20.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述布置的步骤包括在所述印模和衬底之间的区域中应用真空。

21.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述布置的步骤包括向所述印模的相对所述图案化的凸起的特征的一侧施加压力以及在所述印模和衬底之间的区域中应用真空。

22.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述布置的步骤包括通过施加差别压力使弹性膜活动。