[发明专利]衬底的声学镜上的压电声学谐振器的装置、用于制造该装置的方法以及该装置的应用有效

专利信息
申请号: 200980122904.9 申请日: 2009-06-15
公开(公告)号: CN102066919A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: D.皮策尔;M.施雷特 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: G01N29/02 分类号: G01N29/02;G01N29/24;G01N29/036;H03H9/17;H01L41/083
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;李家麟
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 衬底 声学 压电 谐振器 装置 用于 制造 方法 以及 应用
【权利要求书】:

1. 一种位于衬底(12)的衬底表面(121)上的至少一个压电声学谐振器(10)的装置,其中

-所述谐振器具有至少一个压电层(112)、电极(113)和至少一个另外的电极(114),这些部件被彼此布置为使得对所述电极的确定电操控导致所述谐振器以一谐振频率谐振;

-所述衬底的衬底表面由集成在衬底中的用于使所述衬底和所述谐振器彼此声学绝缘的声学镜(14)形成;以及

-存在至少一个用于确定所述谐振器的谐振频率的分析设备(13);

其特征在于,

-所述分析设备和至少一个所述电极通过电印制导线(15)彼此导电连接;以及

-所述电印制导线被引导穿过所述声学镜的镜开口(142)。

2. 根据权利要求1所述的装置,其中所述声学镜的镜开口的侧向边缘(1421)具有电开口绝缘层(1422),所述电开口绝缘层(1422)具有开口绝缘材料并且在所述电开口绝缘层(1422)的上面涂覆有电印制导线。

3. 根据权利要求1或2所述的装置,其中所述分析设备具有集成在所述衬底中的读取电路(131),所述读取电路(131)通过所述电印制导线与所述电极导电连接。

4. 根据权利要求1至3之一所述的装置,其中所述谐振器是薄膜谐振器。

5. 根据权利要求1至4之一所述的装置,其中所述电极之一具有直接在所述声学镜上涂覆的电极层。

6. 根据权利要求1至5之一所述的装置,其中所述另一电极具有另一电极层,所述另一电极层被涂覆在压电层上。

7. 根据权利要求6所述的装置,其中所述另一电极层被涂覆在所述压电层上,使得所述电极层、所述另一电极层以及所述压电层形成谐振器层堆叠(111),其中所述压电层被布置在这些电极层之间。

8. 根据权利要求1至7之一所述的装置,其中所述声学镜具有镜层堆叠(141),其中具有彼此相比而言较低声阻抗以及较高声阻抗的层(1411,1412)被交替地相叠堆叠,其中这些层分别具有对应于所述谐振器的谐振的谐振波长的大致四分之一的层厚度。

9. 根据权利要求8所述的装置,其中具有较低声阻抗的层(1411)具有二氧化硅。

10. 根据权利要求8或9所述的装置,其中具有较高声阻抗的层(1412)具有元素钨。

11. 根据权利要求8至10之一所述的装置,其中所述镜层堆叠的最上面的形成所述衬底的衬底表面的层具有电镜绝缘层(1411),所述电镜绝缘层(1411)具有电镜绝缘材料,并且所述电镜绝缘材料和所述开口绝缘材料基本上相同。

12. 根据权利要求11所述的装置,其中所述镜绝缘层的层厚度和所述开口绝缘层的层厚度基本上相同。

13. 根据权利要求12所述的装置,其中所述镜绝缘层和所述开口绝缘层形成联合的总绝缘层(143)。

14. 根据权利要求13所述的装置,其中所述开口绝缘材料和所述镜绝缘材料具有二氧化硅。

15. 一种用于制造根据权利要求1至14之一所述装置的方法,具有下列方法步骤:

a)提供衬底,所述衬底具有形成衬底表面的声学镜以及存在于所述镜中的镜开口,通过所述镜开口能够导电连接分析设备的读取电路;以及

b)将电印制导线在所述镜开口中布置为使得所述读取电路和所述电印制导线导电连接。

16. 根据权利要求15所述的方法,其中为了提供所述衬底而执行下列另外的方法步骤: 

a')提供衬底,所述衬底具有集成在衬底中的读取电路;

a'')将所述声学镜涂覆在所述衬底上所述读取电路之上,使得所述声学镜形成所述衬底的衬底表面;以及

a''')生成所述声学镜中的镜开口,使得能到达所述读取电路。

17. 根据权利要求15或16所述的方法,其中使用具有镜层堆叠的声学镜,所述镜层堆叠具有交替地相叠堆叠的层,这些层具有彼此相比而言较低或较高的声阻抗,并且这些层中的每一个具有对应于结果得到谐振器的谐振的谐振波长的大致四分之一的层厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980122904.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top