[发明专利]流体液滴喷射装置有效

专利信息
申请号: 200980117680.2 申请日: 2009-05-21
公开(公告)号: CN102026813A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 保罗·A·侯森汤恩;马茨·奥托松;京相忠;永岛完司 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B41J2/045 分类号: B41J2/045
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张成新
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 流体 喷射 装置
【权利要求书】:

1.一种用于喷射流体液滴的系统,包括:

基板,所述基板包括流路体,所述流路体具有形成于所述流路体中的流路,所述流路包括流体抽吸室、以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室的下降装置、以使流体流动的方式连接到所述下降装置的喷嘴、以及以使流体流动的方式连接到所述下降装置的再循环通道,所述喷嘴被布置成通过形成于喷嘴层外表面中的出口喷射流体液滴,所述再循环通道比所述抽吸室更靠近所述喷嘴;

流体供应容器,所述流体供应容器以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室;

流体返回容器,所述流体返回容器以使流体流动的方式连接到所述再循环通道;以及

泵,所述泵被构造成以流体流动的方式连接到所述流体返回容器和所述流体供应容器,从而形成一个流路,所述流路从所述流体供应容器至所述基板并穿过所述基板、从所述基板至所述流体返回容器并从所述流体返回容器至所述流体供应容器。

2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述泵被构造成保持所述流体供应容器中的流体高度与所述流体返回容器中的流体高度之间的预定高度差,并且其中,所述预定高度差被选定为使流体以足以迫使气泡或污染物通过所述流体抽吸室、所述下降装置和所述再循环通道的流量流动通过所述基板。

3.根据权利要求1所述的系统,其中,没有泵以使流体流动的方式连接在所述基板与所述流体供应容器之间。

4.根据权利要求1所述的系统,其中,没有泵以使流体流动的方式连接在所述基板与所述流体返回容器之间。

5.根据权利要求1所述的系统,其中,通过所述再循环通道的流量(以皮升/秒表示)与所述出口的面积(以平方微米表示)的比值至少为大约10。

6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述出口的面积为大约156平方微米,而通过所述再循环通道的流量至少为大约1500皮升/秒。

7.根据权利要求1所述的系统,其中,基板外表面与所述再循环通道的最靠近表面之间的距离小于所述出口的宽度的大约10倍。

8.根据权利要求7所述的系统,其中,所述出口的宽度为大约12.5微米,而所述基板外表面与所述再循环通道的所述最靠近表面之间的距离小于大约60微米。

9.根据权利要求1所述的系统,还包括定位成从通过所述基板的流体流除去空气的脱气器。

10.根据权利要求1所述的系统,还包括定位成从通过所述基板的流体流除去污染物的过滤器。

11.根据权利要求1所述的系统,还包括定位成加热通过所述基板的流体流的加热器。

12.一种用于喷射流体液滴的装置,包括:

基板,所述基板具有形成于所述基板中的流体抽吸室;

下降装置,所述下降装置形成于所述基板中,并且以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室;

致动器,所述致动器与所述流体抽吸室形成压力连通;

喷嘴,所述喷嘴形成于所述基板中并以使流体流动的方式连接到所述下降装置,所述喷嘴具有用于喷射流体液滴的出口,所述出口形成于基板外表面中;以及

再循环通道,所述再循环通道形成于所述基板中,并且在使得所述基板外表面与所述再循环通道的最靠近表面之间的距离小于或大约为所述出口的宽度的10倍的位置处以使流体流动的方式连接到所述下降装置,并且所述再循环通道没有以使流体流动的方式连接到不同的流体抽吸室。

13.根据权利要求12所述的装置,其中,所述出口的宽度为大约12.5微米,而所述基板外表面与所述再循环通道的所述最靠近表面之间的距离小于或大约为60微米。

14.根据权利要求12所述的装置,其中,通过所述再循环通道的流量(以皮升/秒表示)与所述出口的面积(以平方微米表示)的比值至少为大约10。

15.根据权利要求14所述的装置,其中,所述出口的面积为大约156平方微米,而通过所述再循环通道的流体的流量至少为大约1500皮升/秒。

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