[发明专利]玻璃无效
申请号: | 200980116573.8 | 申请日: | 2009-05-13 |
公开(公告)号: | CN102015560A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 室住久志;森田友和;中岛耕介 | 申请(专利权)人: | 株式会社小原 |
主分类号: | C03C3/093 | 分类号: | C03C3/093;G02B1/00 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 | ||
技术领域
本发明涉及能够用于各种基板材,具有低平均线膨胀系数和低玻璃化点的玻璃。
背景技术
平均线膨胀系数低的玻璃,被广泛用于精密仪器领域中的基板材、耐热玻璃等领域。
近年来,在用于望远镜的反射镜基板等用途中,需要平均线膨胀系数低并且热加工性优异且具有低玻璃化点的玻璃。此外,由于期望以低成本制造这些玻璃,因此需要在低温下能够熔融。
作为低热膨胀性的玻璃,熟知的是硼硅酸玻璃。具有代表性的有コ一ニング社制的#7740,虽然其平均线膨胀系数在0~300℃下为32.5×10-7℃-1、玻璃化点为530℃,但熔融温度却为1500℃以上的极高温。
因此,在制造这种玻璃时会产生以下问题,即玻璃难以澄清,成形后的玻璃内部品质容易变差,同时制造设备成本增加。
此外,由于专利文献1和2公开的具有低平均线膨胀系数的玻璃主要用于耐热玻璃,因此需要具有较高的玻璃化点。因此,尚未公开兼具低热膨胀性、低温熔融性以及低玻璃化点的玻璃。
专利文献1:日本特开2005-139031号公报
专利文献2:日本特开2000-44278号公报
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃,其具有低热膨胀性和低玻璃化点、在较低温度下能够熔融,0℃~300℃时的平均线膨胀系数优选为50×10-7℃-1以下、更优选为45×10-7℃-1以下、最优选为40×10-7℃-1以下,玻璃化点优选为650℃以下、更优选为600℃以下、最优选为580℃以下。
应予说明,玻璃原料的熔融温度(有时仅称作熔融温度)是低温熔融性的指标,是指加热原料形成熔融液时,其粘度为102.5dPa·s时的温度。可以使用球引上式粘度计(球引上げ式粘度計),例如有限会社オプト企业制造的BVM-13LH测定该温度。
并且,平均线膨胀系数是低热膨胀性的指标,是指按照JOGIS(日本光学硝子工业会规格)16-2003《光学玻璃在常温附近的平均线膨胀系数的测定方法》,将温度范围从0℃至50℃、以及从0℃至300℃的范围转换时测定的值。
并且,玻璃化点可以作为热加工性的指标,是按照JOGIS(日本光学硝子工业会规格)08-2003《光学玻璃热膨胀的测定方法》测定的值。该值越低,越能够在低温下使玻璃变形,玻璃的热加工性越优异。
为了解决上述课题,本发明人发现一种玻璃,其特征在于:以氧化物基准计,含有SiO2成分、B2O3成分以及ZnO成分,这些成分的总量为75%以上,这些成分的质量%之比ZnO/(SiO2+B2O3)为0.08以上,其中,0℃至50℃时的平均线膨胀系数为50×10-7℃-1以下、更优选为45×10-7℃-1以下、最优选为42×10-7℃-1以下,玻璃化点优选为650℃以下、更优选为600℃以下、最优选为580℃以下,在1500℃以下这样的较低温度下能够熔融。更具体而言,本发明提供以下技术方案。
(方案1)
一种玻璃,其含有SiO2成分、B2O3成分、以及ZnO成分,以氧化物基准的质量%计,这些成分的总量为75%以上,这些成分的质量%之比ZnO/(SiO2+B2O3)为0.08以上,0~300℃时的平均线膨胀系数为20×10-7℃-1~50×10-7℃-1,玻璃化点为650℃以下。
(方案2)
如方案1所述的玻璃,以氧化物基准的质量%计,ZnO成分的含量为5%~20%。
(方案3)
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