[发明专利]光学片有效
申请号: | 200980114296.7 | 申请日: | 2009-03-06 |
公开(公告)号: | CN102016657A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 金京和;金大植;金炅钟 | 申请(专利权)人: | 可隆工业株式会社 |
主分类号: | G02B5/04 | 分类号: | G02B5/04;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 | ||
1.一种光学片,其特征在于,
包括树脂硬化层,该树脂硬化层的分子链包含具有滑动性的元素。
2.一种光学片,其特征在于,
具有结构化表面以及树脂硬化层,该树脂硬化层的分子链包含具有滑动性的元素。
3.如权利要求2所述的光学片,其特征在于,
当利用平面压板以0.2031mN/秒的加压速度向该光学片的结构化表面的上表面进行施压直到达到最大压力值1gf为止,在达到最大压力值后保持5秒钟进行压缩,然后解除压力的情况下,如以下数学式1表示的弹性恢复率为85%以上,
数学式1:
在数学式1中,D1是施加外部压力后被压缩进去的深度,D2是没施加外部压力时的光学片高度和解除外部压力后恢复时的光学片高度之差。
4.如权利要求2或3所述的光学片,其特征在于,包括:
基材层;以及
结构层,形成于该基材层之上且表面结构化,
该结构层是树脂硬化层,该树脂硬化层的分子链包含具有滑动性的元素。
5.如权利要求2或3所述的光学片,其特征在于,包括:
基材层;
结构层,形成于该基材层之上且表面结构化;以及
树脂硬化层,形成于该结构层之上,该树脂硬化层的分子链包含具有滑动性的元素。
6.如权利要求5所述的光学片,其特征在于,
在未形成结构层的基材层另一表面还包括树脂硬化层,该树脂硬化层的分子链包含具有滑动性的元素。
7.如权利要求5所述的光学片,其特征在于,
表面结构化的结构层是树脂硬化层,该树脂硬化层的分子链包含具有滑动性的元素。
8.如权利要求1或2所述的光学片,其特征在于,
具有滑动性的该元素是氟或硅。
9.如权利要求1或2所述的光学片,其特征在于,
该树脂硬化层由包含氟或硅的硬化树脂形成。
10.如权利要求9所述的光学片,其特征在于,
该硬化树脂包括选自有机硅组合物和氟系丙烯酸酯中的至少一种以上。
11.如权利要求3或4所述的光学片,其特征在于,
该结构层可以是纵截面为多角形且顶端为流线型的多角形、半圆形、半椭圆形的多面体形状,或者,可以是纵截面为多角形且顶端为流线型的多角形、半圆形、半椭圆形的柱体形状,或者,可以是纵截面为多角形且顶端为流线型的多角形、半圆形、半椭圆形的曲线柱体形状中选择的一种以上图案构成的形状。
12.如权利要求2所述的光学片,其特征在于,
由该数学式1表示的弹性恢复率为90%以上。
13.如权利要求2或12所述的光学片,其特征在于,
D1满足以下数学式2,
数学式2:
在上述数学式中,D为没施加外部压力时的光学片的高度。
14.如权利要求2或12所述的光学片,其特征在于,
D1满足以下数学式3,
数学式3:
在上述数学式中,D为没施加外部压力时的光学片的高度。
15.如权利要求2或12所述的光学片,其特征在于,
D1满足以下数学式4,
数学式4:
在上述数学式中,D为没施加外部压力时的光学片的高度。
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