[实用新型]一种流体温度调节装置无效

专利信息
申请号: 200920193117.0 申请日: 2009-08-20
公开(公告)号: CN201672683U 公开(公告)日: 2010-12-15
发明(设计)人: 章松波;张进伟 申请(专利权)人: 聚光科技(杭州)股份有限公司
主分类号: F24H9/20 分类号: F24H9/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 流体 温度 调节 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及温度调节,特别涉及一种适于流体温度调节的装置。

背景技术

在仪表系统设计中经常要加热流体,早期采用的技术方案是:加热体是直线状的,而流体的流路呈直线状并紧靠所述加热体的外缘。如中国专利CN2445687Y公开了一种电加热器,如图1所示,在本体1上设置有流体通道3以及加热通道21,加热体4装在通道21内,流体管路5连通流体通道3。加热体4加热了本体1,本体1靠着热传导将热量传递给流体通道3内的流体,从而加热了流体。专利CN2408391Y公开了和上述专利类似的技术方案。

由上述专利中的技术可知,流路是直线形的,流体的加热行程较短,加热效率和加热均匀性低。为了克服上述技术问题,松下电器公司的专利WO2005015092公开了一种流体加热装置,如图2所示,在主箱体600内设置直线状电加热管505,而在电加热管505的外缘绕有弹簧515a,流体如水从进口511进入,并流过弹簧之间的螺旋状流路510,最后从排水口512e流出。CN1540261A、CN2718560A公开了和松下专利相似的电加热器。

为了进一步提高流体的加热效率和加热均匀性,Valeo公司提出了另外一种流体加热装置,参见专利WO03064224,如图3、4所示,在本体40的上部开有螺旋状的流路130,下部也开有螺旋状的流路132,流路130、132通过孔134上下连通。在本体40的中部开有孔92、94、96、98,便于将电加热部件安装于所述孔中。在流体加热时,流体通过进口42进入流路130,并由外向内呈螺旋状地流向孔134,通过孔134进入流路132,并由内向外地呈螺旋状地排出出口44。在流体的上述流动过程中,孔92、94、96、98内的加热元件加热了本体40,本体40通过热传导将热量传递给流路130、132中的流体。专利WO2003064936、WO03101798、WO2004051153、WO2004078537、WO2004078538以及WO2005000640公开了类似的加热方案。

Valeo公司提出的方案中,流体的加热效率和加热均匀性都得到了提高,但还有一些不足,如:

1、结构复杂,加工成本高。

需要在本体40上加工出上下两层螺旋状的流路130、132,中间还要加工出孔92、94、96、98,还需要设置上下流路130、132的盖板。

2、流体的加热效率和加热均匀性有待提高

虽然设置了上下两层的螺旋状流路,有助于延长加热长度,但加热元件有限,与流路的间距也较大(受加工技术的限制),这就限制了流体的加热效率,带来了流体加热速度低、加热时间长等不足。

实用新型内容

为了解决现有技术中的上述不足,本实用新型提供了一种温度调节效率高、结构简单、加工方便、成本低的流体温度调节装置。

为实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种流体温度调节装置,包括温度调节部件、两端开口的流体管;所述流体管和温度调节部件通过金属材料浇铸而成为一体。

作为优选,所述温度调节部件是温度调节管、或呈板状或片状。

作为优选,所述流体管和温度调节管绞在一起或无规则地交织在一起。

作为优选,所述流体管或/和温度调节管呈螺旋状。

作为优选,所述流体管呈双层螺旋结构,螺旋状的温度调节管嵌入所述双层螺旋结构中。

进一步,温度调节装置还包括测温部件,所述测温部件嵌入浇铸后的金属材料中。

作为优选,所述测温部件随所述流体管和温度调节部件通过金属材料浇铸而成为一体。

进一步,所述温度调节管内设置加热或制冷元件。

本实用新型与现有技术相比,具有以下有益效果:

1、结构简单、成本低

只需提供流体管和温度调节部件(必要时添加加热或制冷元件)并组装,并通过金属浇铸而成,无需其它部件;无需刻槽,加工较为简便。

2、流体温度调节效率和均匀性好

流体管和温度调节部件先期组装,可以是缠绕式结构、或螺旋并嵌入式结构、或无规则的交织在一起,并通过导热性能好的金属材料浇铸为一体,在有限的体积内提高了流路的长度,也提高了流体管和温度调节部件间的热传导效果,从而进一步提高了流体温度调节的效率和均匀性。

附图说明

图1是现有技术中第一种解决方案的结构示意图;

图2是现有技术中第二种解决方案的结构示意图;

图3是现有技术中第三种解决方案的结构示意图;

图4是现有技术中第三种解决方案的另一结构示意图;

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