[实用新型]蚀刻清洗槽

说明书

技术领域

本实用新型涉及蚀刻清洗设备，尤其涉及一种蚀刻清洗设备的蚀刻清洗槽。

背景技术

蚀刻清洗技术广泛应用于电子、化学、机械等多个制造行业，对于一些精密的行业，例如半导体、液晶显示、太阳能电池行业，蚀刻清洗效果直接关系到产品的质量和良品率，显得尤其重要。对于槽式蚀刻清洗技术，需要使药水充分，进而使温度均匀才能使各个产品的蚀刻清洗程度一致达到要求，通过泵使药水自循环是充分混合的一种有效方法。

目前，槽式蚀刻清洗技术所广泛使用的蚀刻清洗槽结构示意如图1所示，药水从蚀刻清洗槽10溢流到溢流暂存区13，并在重力的作用下流到暂存槽11中，然后用泵12将药水从暂存槽11中抽回蚀刻清洗槽10中，完成药水自循环。

在一般情况下，这种槽式循环结构能满足蚀刻清洗要求，但是对蚀刻清洗要求很高的行业来说，这种方法存在着明显的缺点：需要一个附加暂存槽，占用空间和材料，对于诸如半导体、液晶显示、太阳能行业来说，这种代价都是十分昂贵的。而且，溢流属于药水被动式循环，不能使药水循环充分，泵抽回药水的流速较快，也会使进液口附近的产品蚀刻清洗程度较大而造成不良，例如硅片蚀刻清洗中，会使进液口附近的硅片区比其它区域薄，造成厚度不均的大面积不良。

发明内容

鉴于现有技术中的上述问题，本实用新型的目的在于提供一种蚀刻清洗槽，不需要暂存槽，同时使药水混合均匀，流动均匀，改善蚀刻清洗产品的质量。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种蚀刻清洗槽，包括：

一槽体，所述槽体侧壁的上部外设一圈可存储药水的暂存区，所述暂存区侧壁比槽体侧壁高，所述暂存区侧壁上开设有进液口，所述槽体侧壁的下部设有抽液口，所述槽体底壁上方设置有鼓泡板，所述鼓泡板上开设有均与分布的鼓泡孔。

作为优选，本实用新型槽体形状为长方体形或圆柱体形。

本实用新型具有以下有益效果：

减少了暂存槽，节省了空间和材料，同时使药水循环流动更均匀，提高了产品蚀刻清洗效果。

附图说明

图1为传统蚀刻清洗槽循环示意图；

图2为本实用新型的蚀刻清洗槽实施例一的结构示意图；

图3为图2的正视图；

图4为图2的俯视图；

图5为本实用新型的蚀刻清洗槽实施例一的工作示意图。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的蚀刻清洗槽实施例。

实施例一：

如图2至图4所示，以长方体形槽体为例，包括：

一槽体20，所述槽体侧壁21的上部外设一圈可存储药水的暂存区24，所述暂存区24侧壁比槽体侧壁21高，所述暂存区24的左侧壁241、右侧壁242、前侧壁243、后侧壁244上分别设有进液口23，所述槽体侧壁21的左侧壁211、右侧壁212的下部分别设有抽液口22，所述槽体底壁26上方设置有鼓泡板25，所述鼓泡板25上开设有均匀分布的鼓泡孔251。

通过本实施例，药水循环由溢流被动循环变成了底部抽液底部进液的主动循环模式，如图5所示本实用新型蚀刻清洗槽实施例工作示意图，药水通过泵12从槽体侧壁21的抽液口22抽出，回到上部的暂存区24，当液面高过侧壁21的高度后，药水自动溢流回蚀刻清洗槽体20，完成循环，同时通过鼓泡盘25上的鼓泡孔251对药水均匀鼓泡，促使药水混合更加均匀。

本实施例节省了暂存槽，从而节省了空间和材料，同时，主动循环模式使药水循环更加均匀，暂存区的设置也解决了药水进液流速可能造成的产品不良状况，大大提高了蚀刻清洗效果，特别适合蚀刻清洗要求精度高的行业使用。

在本实用新型的另一个实施例中，槽体底壁26向中心倾斜，使可能产生的蚀刻清洗生成物顺利沉淀并排除。

在本实用新型的另一个实施例中，槽体侧壁21的顶部开设为锯齿状，使药水顺利流动回蚀刻清洗槽体。

在本实用新型的另一个实施例中，所述过鼓泡孔251为圆形，产生均匀气泡使药水更加均匀。