[实用新型]内装式磁控溅射靶无效
| 申请号： | 200920172901.3 | 申请日： | 2009-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN201512577U | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 熊剑辉 | 申请（专利权）人： | 熊剑辉 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100190 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 内装式 磁控溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种内装式磁控溅射靶，包括屏蔽罩(1)、靶材压块(2)、靶材(3)、靶材背板(4)、靶体(5)、外磁靴(6)、屏蔽罩绝缘件(7)、底靴(8)、出水管(9)、内磁靴(10)、出水管绝缘件(11)；其特征在于，屏蔽罩(1)包裹靶体(5)，靶材压块(2)位于靶材(3)上面，靶材背板(4)位于靶材(3)背后，出水管(9)与靶体(5)相连。
2.根据权利要求1所述的内装式磁控溅靶，其特征在于：底靴(8)位于靶体(5)的下部，外磁靴(6)、内磁靴(10)位于靶体(5)的内部，内磁靴(10)位于靶体(5)内部中间位置。
3.根据权利要求1所述的内装式磁控溅靶，其特征在于：所述屏蔽罩绝缘件(7)位于屏蔽罩(1)与靶体(5)之间，
4.根据权利要求1所述的内装式磁控溅靶，其特征在于：所述出水管绝缘件(11)位于出水管(9)与靶体(5)之间。
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