[实用新型]内铜盖暨外环陶瓷式炉头构造无效

专利信息
申请号: 200920171064.2 申请日: 2009-08-17
公开(公告)号: CN201507926U 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 严凤英 申请(专利权)人: 严凤英
主分类号: F23D14/00 分类号: F23D14/00;F23D14/46
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申海庆
地址: 中国台湾台中市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 内铜盖暨外环 陶瓷 式炉头 构造
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种燃烧瓦斯燃气的炉头构造,特别涉及一种内铜盖暨外环陶瓷式炉头构造。

背景技术

现有的陶瓷式炉头构造,其包括有炉头、陶瓷片及环盖,其中该炉头内形成有单一气室及单一中空状炉管,该炉管与气室连通,且环盖套置组设于炉头的顶缘处,陶瓷片夹置于炉头及环盖之间;该陶瓷片的适当处分布有数个贯穿的小气孔,该小气孔供气室内的瓦斯气体流动之用。

大多家庭在炊煮时,一般都会根据不同炊煮菜色的需要来不同程度的调整火力变化,如:外围中火及中间小火、外围熄火及中间小火、外围中火及中间大火等;然而,由于现有的炉头为单一炉管及单一气室,只能进行全面大火至全面小火的同步控制,存在无法根据不同炊煮菜色的需要调控火力变化的缺陷。

实用新型内容

为克服上述缺陷,本实用新型目的在于提供一种能够根据不同炊煮菜色的需要调控火力变化的内铜盖暨外环陶瓷式炉头构造。

为达到上述目的,本实用新型的内铜盖暨外环陶瓷式炉头构造,其包括有一炉头本体、外环陶瓷片、内铜盖及外套盖,该炉头本体分为内环气室、外环气室、内环管及外环管,该内环气室及外环气室为相互独立状,该内环管及外环管分别与内环气室及外环气室相连通,并于内环气室及外环气室的近顶缘处形成有环肩部支撑置放内铜盖及外环陶瓷片;该内铜盖的表面分布有贯穿状的气孔及其底面形成有气道,且该气道与气孔间相互连通;该外环陶瓷片的表面分布有贯穿状的小气孔及气引道,且于气引道上布设有贯穿状小气孔。

本实用新型的内铜盖暨外环陶瓷式炉头构造,由于组设于炉头本体上的内环管及外环管分别连通于相互独立状的内环气室及外环气室,并于内环气室及外环气室的近顶缘处形成有环肩部支撑置放内铜盖及外环陶瓷片,因此,内铜盖及外环陶瓷片的温度能够分别独立控制,满足家庭主妇炊煮不同菜色时火力多段式变化的需求。

附图说明

图1为本实用新型的立体分解示意图。

图2为图1所示组合时的应用状态图。

图3为图2所示A-A组合剖面示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的详细说明。

如图1、图2、图3所示,本实用新型的内铜盖暨外环陶瓷式炉头构造,其主要包括有一炉头本体1、外环陶瓷片3、内铜盖4及外套盖5,其中该炉头本体1可分为内环气室10、外环气室11、内环管12及外环管13所组成,该内环气室10及外环气室11为相互独立的不连通状,且该内环管12及外环管13分别与内环气室10及外环气室11相连通,并于内环气室10及外环气室11的近顶缘处形成有环肩部101、111,以作为支撑内铜盖4及外环陶瓷片3置于其上之用;该内铜盖4及外套盖5分别组设于炉头本体1的内环气室10及外环气室11的顶缘处,以达到将内铜盖4及外环陶瓷片3同时固定于炉头本体1的环肩部101、111上使用;

该内铜盖4的表面分布有贯穿状的气孔40及其底面形成有气道41,且该气道41可与气孔40间相互连通,作为内环气室10内的瓦斯燃气从内铜盖4的气道41流经气孔40喷出后炉火点燃的热源供应;

该外环陶瓷片3的表面分布有贯穿状的小气孔30及气引道31,且于气引道31上也布设有贯穿状小气孔30,作为外环气室11内的瓦斯燃气从外环陶瓷片3底面经由小气孔30流动供应炉火点燃及外环陶瓷片3的热源供应;

当使用时,由于炉头本体1的内环管12及外环管13分别供应内环气室10及外环气室11的瓦斯燃气,再加上,内环气室10及外环气室11为相互独立的不连通状,因此,家庭主妇可依不同菜色的炊煮需求改变内环气室10及外环气室11间的燃气供应量,使燃气能从内铜盖4的气道41及外环陶瓷片3的底面,经由气孔40、小气孔30流动至其顶面处,作为点火燃烧时所需火力大小的依据,且能使从内铜盖4的气孔40所喷出的炉火火焰温度,也能受已组设于内环气室10外侧方的热电偶6所感应,使瓦斯开关得以保持常开状态;这样,内外环气室10、11的供应燃气就可以分别独立控制,内铜盖4及外环陶瓷片3的温度也就可以分别独立控制,如:外围中火及中间小火、外围熄火及中间小火、外围中火及中间大火等,满足家庭主妇炊煮不同菜色时火力多段式变化的需求。

以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

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