[实用新型]日用陶瓷弧形淋釉装置无效
申请号: | 200920141217.9 | 申请日: | 2009-08-17 |
公开(公告)号: | CN201485391U | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 凌恺;梁康宁 | 申请(专利权)人: | 凌恺;梁康宁 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 玉林市宇林专利代理事务所 45109 | 代理人: | 傅启英;吴安仪 |
地址: | 537400 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 日用陶瓷 弧形 装置 | ||
技术领域:
本实用新型属于轻工机械设备,尤其是一种日用陶瓷弧形淋釉装置。
背景技术:
在现用的闭环式日用陶瓷淋釉生产线中,淋釉装置是平面形式,这种形式对平盘类、浅汤盘类淋釉效果很好,但对一些盘叶与水平面角度较大(如超过45°)的盘类、斗碗类产品淋釉效果则较差。主要是淋釉后坯体正面、背面的前端、后端的盘叶曲面处薄釉、缺釉。原因是单位时间内,淋釉器垂直淋下的釉量只能满足坯体盘叶投影面积的釉量,而实际上釉水淋在与水平面有较大倾角的盘叶上,盘叶的面积大于投影面积,故盘叶上的釉量不足而形成薄釉。
发明内容:
本实用新型针对上述问题,提供一种能满足一些盘叶与水平倾角较大的盘类、斗碗类的产品,能够在闭环淋釉生产线上进行淋釉的日用陶瓷弧形淋釉装置。
本实用新型技术解决方案如下:
1、一种日用陶瓷弧形淋釉装置,在现有的闭环淋釉线生产线的基础上,对淋釉器下方的输送带部份进行改造,使坯体在淋釉时改变坯体盘叶面与水平面的角度,特征是所述的背面淋釉器下方一段输送带设置有拱形皮带导向条,拱形皮带导向条的支架连接机架,正面淋釉器下方一段凸形皮带设置有凹弧形皮带导向条,凹弧形皮带导向条的支架连接机架。
2、如技术方案1所述的日用陶瓷弧形淋釉装置,其中,所述的背面淋釉器的釉幕正对拱形皮带导向条的最高点。
3、如技术方案1所述的日用陶瓷弧形淋釉装置,其中,所述的正面淋釉器的釉幕正对凹弧形皮带导向条的最低点。
本实用新型克服了现有淋釉线淋盘叶与水平面角度较大的盘类、斗碗类产品时产生的薄釉、缺釉等缺陷。与现有技术相比能将这些产品的坯体直接放到淋釉线中去施釉,具有生产效率高,施釉质量好,为企业减少用工,减轻工人劳动强度等优点。
附图说明:
图1为本实用新型的整体结构主视图。
图2为本实用新型的图1中A-A剖视图。
图3为本实用新型的图1中B-B剖视图。
在图1~3中,坯体(1)、坯托(2)、背面淋釉器(3)、拱形皮带导向条(4)、输送带(5)、支架(6)、正面淋釉器(7)、凹弧形皮带导向条(8)、凸形皮带(9)、支架(10)。
具体实施方式:
本实用新型的最佳实施例是这样的,参照图1~3所示,一种日用陶瓷弧形淋釉装置,在现有的闭环淋釉线生产线的基础上,对淋釉器下方的输送带部份进行改造,使坯体1在淋釉时改变坯体盘叶面与水平面的角度,其中,所述的背面淋釉器3下方一段输送带5设置有拱形皮带导向条4,拱形皮带导向条4的支架6连接机架,正面淋釉器7下方一段凸形皮带9设置有凹弧形皮带导向条8,凹弧形皮带导向条8的支架10连接机架;所述的背面淋釉器3的釉幕正对拱形皮带导向条4的最高点;所述的正面淋釉器7的釉幕正对凹弧形皮带导向条8的最低点。
工作原理:淋釉时,将坯体1放在坯托2上,坯托2在输送带5上方传动。当淋坯体1的背面釉时,载有坯体1的坯托2的输送带5沿拱形皮带导向条4进行上坡运动,坯体1的前盘叶与水平面相对水平,过了最高点后,下坡运动时坯体1后盘叶与水平面相对水平,坯体1的背面淋完釉后,将坯体1翻转正面向上,对坯体1正面淋釉,载有坯体1的坯托2的凸形皮带9沿凹弧形皮带导向条8由下坡至上坡运动,下坡时坯体1前盘叶与水平面相对水平,过了最低点后,坯体1后盘叶又与水平面相对水平。
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