[实用新型]一种核磁管自动洗洁装置无效

专利信息
申请号: 200920071937.2 申请日: 2009-05-08
公开(公告)号: CN201399458Y 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 祖耀;刘顺英 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: B08B9/28 分类号: B08B9/28
代理公司: 上海蓝迪专利事务所 代理人: 徐筱梅
地址: 200241*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 核磁管 自动 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及化学实验仪器的清洗装置,尤其是一种核磁管自动洗洁装置。

背景技术

大型仪器核磁共振仪在化学、物理、生物医药等各个领域有着广泛应用。核磁共振仪广泛用于有机物质的研究、化学反应动力学、高分子化学以及医学、药学和生物学等领域。50年来,由于这一技术的飞速发展,它已经成为化学领域最重要的分析技术之一。无论是何种元素的核磁共振检测,包括氢谱、碳谱、氟谱、磷谱等,都需要将核磁共振检测的样品放入特定制作的核磁管中进行测试。核磁管一般是由石英玻璃为材料,内径5毫米左右,长度在15.3厘米至22.6厘米之间的一端封口的细小直管。当每次测试完成后必须要对核磁管进行清洗,存在的问题是:由于核磁管口径小、管长、管壁薄、石英玻璃易碎等原因而使清洗较为困难和麻烦。目前,核磁管的清洗方法有三类:一是手动清洗方式,即直接采用刷子加上有机溶剂份或者用带着清洗液的棉棒插入核磁管进行清洗,这种方法洗洁效果直接,比较干净,然而费时费力,并且非常容易划伤核磁管、弄破核磁管或损坏核磁管口;二是把核磁管放入清洗液中,在超声波清洗器中清洗,这种方法优点是快,大批量的清洗比较适宜,但在超声清洗完成后,还需要结合手动清洗,同时超声波容易造成对核磁管材质石英晶格的破坏,长期使用会使核磁管损坏,影响核磁检测结果;三是采用专用的核磁管清洗器,但其价格较贵,不易操作,且清洗仪本身需要清洗,费时费力。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术的不足而提供的一种核磁管自动洗洁装置,该装置不仅效率高,能自动地、快速地清洗一个或者同时清洗多个核磁管,而且不对核磁管造成损坏,以及具有体积小而不占实验室空间,结构简单,操作和使用方便等特点。

实现本实用新型目的的具体技术方案是:

一种核磁管自动洗洁装置,该装置包括贮液器、密封塞、锥形管及通管,贮液器为一锥形容器,其顶部设有开口、侧壁:上部设有真空泵接入口、下部设有废液出口;锥形管倒置于贮液器顶部的开口内;密封塞设于锥形管内、将锥形管分隔为上腔室及与贮液器贯通的下腔室;通管为空心直管、穿过密封塞其一端位于锥形管的上腔室、另一端位于锥形管与贮液器贯通的下腔室且低于真空泵接入口。

所述通管的长度大于所洗核磁管长度与密封塞上平面至贮液器上的真空泵接入口的距离之和、小于所洗核磁管长度与密封塞上平面至贮液器底部距离之和;通管的根数为n,n=1、2、3……;通管为玻璃管、塑料管或者金属管。

所述密封塞为橡胶塞、塑料塞或者软木塞。

所述锥形管与贮液器为玻璃、塑料或者金属材料制成。

本实用新型在清洗液的溶解和冲击作用下,能够快速、高效、简易的清洗核磁管,具有体积小,结构简单,使用方便,可靠性、安全性高,易维护,使核磁管清洗更为高效。

附图说明

图1为本实用新型结构示意

图2为图1的I-I处俯视图

图3为清洗液在本实用新型工作时的流动示意图

具体实施方式

参阅图1、图2,本实用新型包括贮液器2、密封塞4、锥形管5及通管6,贮液器2为一锥形容器,其顶部设有开口、侧壁:上部设有真空泵接入口3、下部设有废液出口1;锥形管5倒置于贮液器2顶部的开口内;密封塞4设于锥形管5内、将锥形管5分隔为上腔室及与贮液器2贯通的下腔室;通管6为空心直管、穿过密封塞4其一端位于锥形管5的上腔室、另一端位于锥形管5与贮液器2贯通的下腔室且低于真空泵接入口3。

本实用新型的工作过程:

第一步:参阅图1,用软塞塞住废液出口1;在真空泵接入口3处连接真空泵;将锥形管5置入贮液器2顶部的开口处并密封连接;锥形管5内放入设有小孔的密封塞4,小孔孔径与通管6配合且保持密封为准。

第二步:参阅图2,密封塞4上按一定规律和顺序排列有小孔,该小孔中插入通管6,通管6的长度大于所洗核磁管的长度与密封塞4上平面到真空口的距离之和,小于所洗核磁管的长度与密封塞上平面到贮液器底部距离之和,并使通管6的两端分别位于锥形管5的上、下两个腔室内。

第三步:参阅图1、图3,调节通管6,使其顶端到密封塞4上平面的距离大于核磁管7的总长度1-10毫米,该长度差值在本着节约清洗液8的原则下以实际清洗液8易于抽入核磁管7为准,可手动调节通管6在密封塞4上平面所需要长度;如核磁管7的长度为20厘米,调节通管6,使其顶端到密封塞4上平面的距离为20.1-20.5厘米;而通管6的下端应位于贮液器2中,且控制通管6下端口位置低于真空泵接入口3。

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